预览加载中,请您耐心等待几秒...
1/10
2/10
3/10
4/10
5/10
6/10
7/10
8/10
9/10
10/10

亲,该文档总共33页,到这已经超出免费预览范围,如果喜欢就直接下载吧~

如果您无法下载资料,请参考说明:

1、部分资料下载需要金币,请确保您的账户上有足够的金币

2、已购买过的文档,再次下载不重复扣费

3、资料包下载后请先用软件解压,在使用对应软件打开

(19)中华人民共和国国家知识产权局*CN102186639A*(12)发明专利申请(10)申请公布号CN102186639A(43)申请公布日2011.09.14(21)申请号200980141034.X(74)专利代理机构中国专利代理(香港)有限公(22)申请日2009.10.15司72001代理人朱美红杨楷(30)优先权数据2008-2684752008.10.17JP(51)Int.Cl.B25J15/00(2006.01)(85)PCT申请进入国家阶段日B25J9/06(2006.01)2011.04.15B25J15/08(2006.01)(86)PCT申请的申请数据H01L21/677(2006.01)PCT/JP2009/0678422009.10.15(87)PCT申请的公布数据WO2010/044440JA2010.04.22(71)申请人株式会社爱发科地址日本神奈川县(72)发明人南展史权利要求书1页说明书16页附图15页(54)发明名称输送装置及真空装置(57)摘要本发明提供一种不仅在低温下、在高温环境下也可靠地保持输送物而实现高速输送、并且使输送物的输送时的灰尘减少的技术。本发明的输送装置(50)具备具有被传递来自驱动源的动力的多个臂的伸缩自如的连杆机构(20)、和经由驱动连杆部连结在连杆机构(20)的动作前端部上、用来载置基板(10)的载置部(5)。在载置部(5)中,设有用来与基板(10)的侧部抵接而卡止的卡止部(5a、5b),并且在连杆机构(20)的驱动连杆部中设有由凸轮机构实现的施力单元(9)。施力单元(9)具备设在连杆机构(20)的驱动连杆部上的凸轮驱动面(31L、31R)、和具有抵接在凸轮驱动面(31L、31R)上而能够从动的从动辊、具有对应于该从动辊的移动而被朝向载置部(5)的卡止部(5a、5b)导引移动的凸状的施力部(6a)的从动机构部(6)。CN1028639ACCNN110218663902186643A权利要求书1/1页1.一种输送装置,其特征在于,具备:伸缩自如的连杆机构,具有被传递来自驱动源的动力的多个臂;和载置部,经由驱动连杆部连结在上述连杆机构的动作前端部上,用来载置输送物;在上述载置部上,设有用来与该输送物的侧部抵接而卡止的卡止部;并且在上述连杆机构的驱动连杆部上设有由凸轮机构实现的施力单元;上述施力单元具备凸轮驱动面和从动机构部,所述凸轮驱动面设在上述连杆机构的驱动连杆部上,所述从动机构部具有抵接在该凸轮驱动面上而能够从动的从动辊、具有对应于该从动辊的移动而沿着朝向上述载置部的卡止部的方向被导引移动的施力部。2.如权利要求1所述的输送装置,其特征在于,上述施力单元在旋转方向是相反方向的一对相邻的连杆部件上分别形成有上述凸轮驱动面,并且上述从动机构部具有对应于该一对凸轮驱动面的一对从动辊和凸状的上述施力部。3.如权利要求1或2所述的输送装置,其特征在于,上述施力单元的从动机构部具有用来调节对上述凸轮驱动面的施力的施力调节部件。4.如权利要求1~3中任一项所述的输送装置,其特征在于,在上述施力单元的从动机构部的施力部中,具有用来使该施力部的施力减能的减能部件。5.如权利要求1~4中任一项所述的输送装置,其特征在于,上述载置部的卡止部具有受随着上述连杆机构的驱动连杆部的动作而向朝向上述施力单元的方向移动的驱动机构驱动、对该输送物施力而与上述施力单元一起把持该输送物的把持机构。6.如权利要求5所述的输送装置,其特征在于,在上述驱动机构中,设有凸轮方式的驱动部,在上述把持机构中,设有受上述凸轮方式的驱动部驱动的凸轮方式的把持部。7.如权利要求5所述的输送装置,其特征在于,在上述驱动机构中,设有凸轮方式的驱动部,在上述把持机构中,设有与上述凸轮方式的驱动部卡合而被驱动的连杆方式的把持部。8.如权利要求5~7中任一项所述的输送装置,其特征在于,上述把持机构设有两个,各把持机构的把持部配置为,使其相对于通过上述第1及第2驱动轴的旋转中心轴线而沿基板输送方向延伸的直线为线对称。9.一种真空装置,其特征在于,具有:真空槽;和权利要求1~8中任一项所述的输送装置;上述输送装置的载置部构成为,使其相对于上述真空槽内运入及运出。2CCNN110218663902186643A说明书1/16页输送装置及真空装置技术领域[0001]本发明涉及输送例如基板等输送物的输送装置,特别涉及适合于半导体制造装置等具备多个处理腔的真空装置的输送装置。背景技术[0002]在半导体制造等的领域中,以往以来使用图14及图15所示那样的基板输送装置101。[0003]该基板输送装置101具有驱动部102、连结在该驱动部102上、由多个臂构成的臂部103、和连结在该臂部103的前端上的末端执行器104,构成为,用末端执行