基板保持装置及使用该基板保持装置的缺陷修正装置.pdf
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基板保持装置及使用该基板保持装置的缺陷修正装置.pdf
一种缺陷修正装置(1),配置有供玻璃基板(99)装载的一对基板端支承台3。在一对基板端支承台(3)之间的区域内配置有多个基板支承用滚轮机构(4),这些基板支承用滚轮机构(4)从下方对玻璃基板(99)予以支承。基板支承用滚轮机构(4)安装有将所装载的玻璃基板(99)的下表面吸附并保持的基板吸附台(26)。藉此,能得到用更简易的结构来对基板进行保持的基板保持装置和应用该基板保持装置的缺陷修正装置。
基板保持装置以及基板保持方法.pdf
本发明涉及基板保持装置以及基板保持方法,提供能够抑制基板的变形的基板保持装置等。基板保持装置(100)具备:基板保持部(例如第1基板保持部(60)),设置有用于真空吸附基板(3)的吸附孔;真空配管(110),与吸附孔(例如第1吸附孔(66))连接;和控制部(2a),通过控制真空配管(110)内的压力来控制经由该吸附孔的吸附力。控制部(2a)在基于与是否能够通过移动部(64)向搬运目的地搬运基板(3)相关的信息的获取结果而判定为不能搬运基板(3)的情况、以及保持在该基板保持部的基板(3)的吸附时间达到了给定
基板保持装置.pdf
本发明提供一种基板保持装置,能抑制在解除基板的吸附时因来自供气流路的供气而使灰尘排出并附着于基板。基板保持装置包括:具有供基板载置的保持面的保持部;设置于所述保持部,并用于将所述基板吸附于所述保持面的吸附孔;以及设置于所述保持部的抽吸流路和供气流路,在解除所述基板相对于所述保持面的吸附时,从所述供气流路向所述基板供气,接着,通过所述抽吸流路抽吸所述吸附孔附近的空气。
基板保持装置.pdf
本发明涉及一种用于保持至少一个基板的装置,所述基板应用于CVD或PVD反应器的处理室中,所述装置具有平坦的上侧,用于至少一个基板(3)的至少一个支承位(2)位于所述上侧上,其中,与基板(3)的轮廓相应的轮廓线(7)被定位侧边(5、5′)从侧向围绕,所述定位侧边(5、5′)分别用于固定位置地贴靠基板(3)的边缘(8)的区段,并且所述装置还具有从支承位(2)的被轮廓线(7)包围的支承位底面(14)突伸出的支撑凸起(9),所述支撑凸起(9)具有相对于支承位底面(14)抬升的放置面(15),所述基板(3)能够放置
弹性膜、基板保持装置及研磨装置.pdf
本发明提供一种在基板边缘部分可精密调整研磨轮廓的弹性膜、基板保持装置以及研磨装置。用于研磨头(1)的弹性膜(10)具备:抵接于晶片(W)的抵接部(11);直立设置于抵接部(11)外周端的圆环状的侧壁(15);从侧壁(15)朝向径向内侧以剖面观看呈直线状延伸的第一分隔壁(14f);及从抵接部(11)的外周端部朝向径向内侧的上方以剖面观看呈直线状延伸的第二分隔壁(14e);以第一分隔壁(14f)、第二分隔壁(14e)以及侧壁(15)构成用于按压晶片(W)边缘的边缘压力室(16f)。