LSCO薄膜的制备及光学性能研究.docx
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LSCO薄膜的制备及光学性能研究.docx
LSCO薄膜的制备及光学性能研究摘要:LSCO薄膜作为一种重要的功能薄膜材料,在太阳能电池、显示器材料及传感器等领域有广泛应用。本文主要讨论了LSCO薄膜的制备方法以及其光学性能研究,探究了不同制备方法对LSCO薄膜微观结构和光学性质的影响,并阐述了其吸收系数、折射率以及透过率等方面的性能表现。关键词:LSCO薄膜;制备方法;光学性能一、引言LSCO薄膜是一种极具应用前景的功能薄膜材料,其具有优异的电学、磁学、光学性能,在太阳能电池、显示器材料以及传感器等领域有广泛的应用。LSCO薄膜的制备方法多种多样,
硅薄膜的制备及光学性能研究.docx
硅薄膜的制备及光学性能研究摘要:本文采用磁控溅射技术,通过改变溅射功率制备了系列非晶硅薄膜,并研究了薄膜的光学性能。结果发现,随着溅射功率的提高,硅薄膜生长速率线性增加。红外光谱测试表明,硅薄膜中含有少量H,并以SiH2的形式存在,随着溅射功率的提高,薄膜中的H含量逐渐增加,而其光学能隙逐渐从1.58eV增加到1.74eV。光致发光实验显示,硅薄膜在380nm和730nm处出现了两处发光峰,其峰位几乎没有变化,而其发光强度和硅薄膜中氧化硅的含量有关。关键词:磁控溅射;硅薄膜;光学能隙;光致发光0引言作为太
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高性能193nm光学薄膜的制备与性能研究摘要随着半导体工艺日益发展,对高性能193nm光刻技术的需求越来越高。光刻中的光学薄膜是其中不可或缺的一部分,其性能直接决定了光刻的质量和效率。本文将介绍高性能193nm光学薄膜的制备方法和性能分析,并探讨了其在半导体工艺中的应用前景。第一部分研究背景高性能193nm光刻技术是半导体工艺发展的重要推动力量。其可以实现更高的线宽和更多的芯片集成度,将半导体工艺推向了新的高度。而在193nm光刻过程中,光刻机的光学系统中所使用的光学薄膜性能则直接影响了芯片质量和工艺效率
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VO2薄膜的制备和光学性能研究摘要本文研究了制备VO2薄膜的方法以及其光学性能。通过溶胶-凝胶法和直流磁控溅射法制备了VO2薄膜,并使用X射线衍射、扫描电镜和紫外-可见吸收光谱等表征方法对其进行了分析。实验结果表明,制备的VO2薄膜具有良好的晶体结构和光学性能,具有可调控的可见光透过率和红外反射率,适用于智能窗等领域的研究和应用。关键词:VO2薄膜;制备方法;光学性能;智能窗;溶胶-凝胶法;直流磁控溅射法引言随着科技的发展,人们对“智能窗”的需求越来越高。智能窗能够根据环境温度和光照强度自动调节透明度,能