用于导电体的接触系统.pdf

(19)中华人民共和国国家知识产权局*CN102610404A*(12)发明专利申请(10)申请公布号CN102610404A(43)申请公布日2012.07.25(21)申请号201210031124.7(22)申请日2012.01.20(30)优先权数据102011009186.62011.01.21DE102011101856.92011.05.18DE(71)申请人ABB技术有限公司地址瑞士苏黎世(72)发明人M·曼T·尚伯格J·斯卡拉比施(74)专利代理机构中国专利代理(香港)有限公司72001代理人汤春龙卢江(51)Int.Cl.H01H1/58(2006.01)权利要求书权利要求书1页1页说明书说明书44页页附图附图33页(54)发明名称用于导电体的接触系统(57)摘要本发明用于导电体的接触系统，涉及用于连接导体(21、22)、尤其是连接用于承载高电流强度的电导体的接触装置，其中所述接触装置具有第一元件和第二元件(31、32)、尤其是第一环和第二环，所述第一元件和第二元件(31、32)具有用于容纳第一导体(21)的内槽和用于容纳到空心柱形的第二导体(22)中的外部轮廓，其中所述元件分别具有环绕着内槽的接触元件(4)，所述接触元件在垂直于被所述元件(31、32)包围的内槽的方向上从相应元件(31、32)凸出并且在所述元件之间分别设置有槽，以便容纳相应其它元件的接触元件(4)。CN10264ACN102610404A权利要求书1/1页1.用于连接导体(21、22)、尤其是连接用于承载高电流强度的导电体的接触装置，其中所述接触装置具有第一元件和第二元件(31、32)、尤其具有第一环和第二环，所述第一元件和第二元件(31、32)具有用于容纳第一导体(21)的内槽和用于容纳到空心柱形的第二导体(22)中的外部轮廓，其中所述元件(31、32)分别具有环绕着所述内槽的接触元件(4)，所述接触元件(4)在垂直于被所述元件(31、32)包围的内槽的方向上从相应元件(31、32)凸出并且在所述元件(31、32)之间分别设置有槽，以便容纳相应其它元件的接触元件。2.根据权利要求1所述的接触装置，其中两个元件(31、32)的所述接触元件(4)在周向方向上具有相等的宽度并且彼此均匀地间隔开。3.根据权利要求1至2之一项所述的接触装置，其中所述接触元件(4)具有第一接触面(61)，以便提供与第一导体(21)的电接触，并且具有第二接触面(62)，以便提供与第二导体(22)的电接触，其中所述接触元件(4)具有倾斜部(9)，所述倾斜部(9)基本上与第一接触面(61)相对放置并且所述倾斜部(9)在元件(31、32)的内槽方向上以及在与此垂直的方向上延伸。4.根据权利要求3所述的接触装置，其中所述接触元件(4)在第一接触面(61)的方向上拓宽。5.根据权利要求1至4之一项所述的接触装置，其中所述元件(31、32)相同地构成。6.具有第一导体(21)和第二导体(22)的接触系统(1)，所述第一导体(21)和第二导体(22)借助根据权利要求1至5之一项所述的接触装置通过第一导体(21)插入到所述内槽中以及所述接触装置插入到第二导体(22)中彼此电相连。7.根据权利要求6所述的接触系统，其中所述第一元件和所述第二元件(31、32)分别固定地与第一导体(21)或第二导体(22)相连。2CN102610404A说明书1/4页用于导电体的接触系统技术领域[0001]本发明涉及两个电导体的相连，尤其是两个用于承载高电流强度的电导体的连接。背景技术[0002]在开关设备中有时必须在可彼此相对活动的、承载高电流的电导体之间设置电连接。这种可活动的导体通常通过多个串联和/或并联的接触装置、例如螺旋弹簧触头、簧片式触头(Lamellenkontakte)或类似物彼此相连。[0003]在高电流情况下，在两个或更多个串联的接触系统中由于趋肤效应会导致不均匀的电流分布。电流分布在很大程度上取决于彼此相连导体的几何形状和接触过渡(KontaktUebergang)的几何形状。通过精巧的接触装置布局并不能容易实现平衡性。[0004]不平衡的分布导致各个接触装置或者接触装置的各个接触元件在运行时受到不同的加热。可能的加热基本上决定了接触装置的构造和尺寸确定，因为无论如何都必须避免相关接触装置的过热。[0005]在具有多个接触装置的接触系统情况下，接触装置出于可较容易制造的原因而实施成相同的，因此，其中接触装置的构造和尺寸确定通常是根据最高负荷的接触装置的。接触装置如此放置，使得接触装置的相应加热保持在预给定的限度内。这导致负荷低的接触装置也如同最高负荷的接触装置一样构成。因此，这种接触系统的制造必然造成较高的花费。发明内容[0006]因此本发明的任务是提供一种具有多个接触装置的接触系