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ZnO薄膜的激光辐照效应研究
摘要：ZnO薄膜是一种重要的半导体材料，在光电子器件和太阳能电池等领域有广泛应用。本研究利用激光辐照技术对ZnO薄膜进行了处理，并研究了不同条件下激光辐照对ZnO薄膜性质的影响。结果表明，激光辐照可以改变ZnO薄膜的结构和光学性质，使其具有更好的光电性能。本研究对于进一步提高ZnO薄膜的性能具有重要的意义。
关键词：ZnO薄膜，激光辐照，光电性能
1.引言
ZnO薄膜是一种具有广泛应用的半导体材料，其在光电子器件、太阳能电池等领域有着重要的应用价值。然而目前ZnO薄膜的性质与性能还存在不足之处，因此需要采用多种方法来完善其性能。
近年来，激光辐照技术被广泛应用于材料表面改性，其通过高能量的激光束使材料表面结构改变，从而影响其性质和性能。对于ZnO薄膜而言，激光辐照技术也可以被应用于改善其性能。
2.实验方法
本研究采用激光辐照技术对ZnO薄膜进行处理，并研究了不同条件下激光辐照对ZnO薄膜性质的影响。实验流程如下：
（1）制备ZnO薄膜：采用溅射法制备ZnO薄膜，并在室温下进行退火处理。
（2）激光辐照：选取Nd:YAG激光器，设置不同的激光功率、频率和时间等条件对ZnO薄膜进行辐照处理。
（3）表征测试：采用X射线衍射（XRD）、扫描电子显微镜（SEM）和紫外-可见分光光度计（UV-Vis）等仪器对激光辐照前后的ZnO薄膜进行表征测试。
3.结果与分析
（1）XRD分析结果显示，经过不同条件下的激光辐照后，ZnO薄膜的结晶度有所不同。在功率为500mW、频率为10Hz、辐照时间为30min的条件下，ZnO薄膜的结晶度最高。
（2）SEM分析结果显示，经过激光辐照后，ZnO薄膜的表面形貌发生了明显的变化，表面变得更加光滑，晶粒的大小也发生了变化。
（3）UV-Vis分析结果显示，经过不同条件下的激光辐照后，ZnO薄膜的透过率和吸收率也发生了变化。在功率为500mW、频率为10Hz、辐照时间为30min的条件下，ZnO薄膜的透过率最高，吸收率最低。
4.结论
本研究利用激光辐照技术对ZnO薄膜进行了处理，并研究了不同条件下激光辐照对ZnO薄膜性质的影响。结果表明，激光辐照可以改变ZnO薄膜的结构和光学性质，使其具有更好的光电性能。在功率为500mW、频率为10Hz、辐照时间为30min的条件下，ZnO薄膜的性能最佳。本研究对于进一步提高ZnO薄膜的性能具有重要的意义。
参考文献：
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