Mn离子注入Mg掺杂GaN的微结构和光学特性研究.docx
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Mn离子注入Mg掺杂GaN的微结构和光学特性研究.docx
Mn离子注入Mg掺杂GaN的微结构和光学特性研究近年来,氮化镓(GaN)材料作为一种重要的半导体材料,在照明、电子信息、能源等领域得到了广泛的应用。Mg掺杂的GaN材料因其优异的光电性能,被广泛用于制备高效的发光二极管和激光器等器件。然而,由于Mg离子的半径比GaN晶体的半径小,常规的Mg掺杂方法难以实现Mg离子的准确控制插入到GaN材料中,因此对Mg离子注入Mg掺杂GaN材料的控制十分关键。本文将介绍Mn离子引入Mg掺杂GaN材料的微结构和光学特性研究进展。1.Mn离子注入Mg掺杂GaN材料的制备方法M
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Mn掺杂GaN电子结构和光学性质研究摘要:Mn掺杂GaN是一种重要的半导体材料,具有很多优异的电子和光学性质。本文对Mn掺杂GaN的电子结构和光学性质进行了系统研究。结果表明,Mn掺杂可以有效地改变GaN的电子结构和光学性质。Mn掺杂的GaN表现出更强的垂向吸收和更大的光学吸收强度,这些结果对于理解Mn掺杂GaN的基本物理特性及其应用具有重要意义。关键词:Mn掺杂GaN,电子结构,光学性质。引言:Mn掺杂GaN是一种具有很高的技术应用前景的材料。它既保留了GaN的优异电子和光学性质,同时通过引入Mn原子,
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Mn掺杂GaN稀磁半导体的电磁特性研究摘要:本文研究了Mn掺杂GaN稀磁半导体的电磁特性。通过磁性测量和电传输性质的表征,发现Mn掺杂后对材料的磁性和电性质产生了显著影响。进一步探究发现,Mn掺杂能够引入新的能级从而改变了电子结构,促进了凝聚态物理现象的发生。这些结果为研究基于GaN的磁性和电性器件提供了重要参考依据。关键词:Mn掺杂;GaN;稀磁半导体;电磁特性引言:稀磁半导体是半导体材料中极具应用前景的一类,在磁性存储、自旋电子学、磁光学和磁性传感器等领域有着广泛的应用。Mn掺杂的GaN是一种典型的稀
Mn掺杂GaN基稀磁半导体材料制备和特性研究.docx
Mn掺杂GaN基稀磁半导体材料制备和特性研究摘要:本文采用锶和锰离子(Mn)分别掺杂氮化镓(GaN)晶体,制备了Mn掺杂的GaN基稀磁半导体材料,并通过X射线衍射(XRD)、扫描电子显微镜(SEM)、透射电子显微镜(TEM)等手段对其结晶性、形貌和磁性进行了表征和分析。结果显示,所制备的Mn掺杂GaN样品中晶格常数发生了改变,并且出现了新增的晶面,表明锰离子已成功掺杂入晶格中。同时,经过霍尔效应测试和磁响应测试,发现样品在低温下表现出弱的铁磁性。这些结果表明,本研究所制备的Mn掺杂GaN材料具有潜在的应用
Mn掺杂GaN粉末的制备和性质研究.docx
Mn掺杂GaN粉末的制备和性质研究随着半导体技术的不断发展,氮化镓(GaN)材料在LED、功率器件等领域得到广泛应用。而Mn掺杂GaN材料具有磁、电、光等多种性质,因此引起了广泛的关注和研究。本文将介绍Mn掺杂GaN粉末的制备方法和性质研究的相关进展。一、制备方法Mn掺杂GaN粉末的制备方法主要有化学气相沉积法(CVD)、分子束外延法(MBE)、电化学沉积法等。其中,CVD法是制备Mn掺杂GaN粉末的主要方法。CVD法制备Mn掺杂GaN粉末的具体步骤如下:首先,在高温下将GaN材料作为基底,将Mn源引入气