LaB_6场发射阴极阵列的制备工艺研究.docx
快乐****蜜蜂
在线预览结束,喜欢就下载吧,查找使用更方便
相关资料
LaB_6场发射阴极阵列的制备工艺研究.docx
LaB_6场发射阴极阵列的制备工艺研究导言:LaB_6场发射阴极阵列是一种重要的电子发射材料,是一种热电子发射材料方面的重要材料之一,具有良好的电子发射性能、优异的机械性能和热稳定性能。本文主要介绍LaB_6场发射阴极阵列的制备工艺研究。一、LaB_6场发射阴极阵列的基本概述LaB_6是一种重要的电子发射材料,因其具有良好的电子发射性能、优异的机械性能和热稳定性能而备受关注。LaB_6的电子发射性能优于其他晶体,主要原因在于其具有高密度、高硬度和优异的导电性能。因此,LaB_6被广泛应用于场发射阴极、离子
LaB_6场发射阵列牺牲层制备工艺.docx
LaB_6场发射阵列牺牲层制备工艺LaB_6场发射阵列是一种新型的高功率微波源,由于其高功率、高效率和稳定性等优点,广泛应用于多种领域,例如物理学、高速通讯、医疗设备等。然而,对于LaB_6场发射阵列的制备过程存在一些问题,例如牺牲层制备工艺问题,需要进行研究和改进。牺牲层是指在LaB_6场发射阵列制备过程中,为了避免粉末颗粒之间的空隙和气隙,采用特殊的方式填充粉末,并在热处理过程中转化为氧化物,起到支撑和强化功能的一种材料。牺牲层的制备工艺对于LaB_6场发射阵列的性能和稳定性具有重要影响。目前,牺牲层
单晶LaB_6场发射阵列的电化学腐蚀工艺.docx
单晶LaB_6场发射阵列的电化学腐蚀工艺单晶LaB6场发射阵列是一种重要的电子发射器件,在电子显微学、电视机、电磁波加热等领域广泛应用。电化学腐蚀是制备单晶LaB6场发射阵列的一种关键工艺,本文将对该工艺进行探讨。一、单晶LaB6场发射阵列简介单晶LaB6场发射阵列是一种利用LaB6单晶作为阴极材料,通过外加电场在其表面发生电子发射的器件。由于LaB6具有较小的电子逸出功和较高的热稳定性,在高温环境下具有良好的稳定性和高效的电子发射性能,因此成为了一种重要的电子发射器件。二、电化学腐蚀工艺的作用单晶LaB
场发射冷阴极微栅孔阵列制备技术.docx
场发射冷阴极微栅孔阵列制备技术摘要冷阴极微栅孔阵列的制备技术是一种应用于现代电子技术领域中的重要技术。本文通过对现有的冷阴极微栅孔阵列制备技术的概述及其优缺点进行分析,提出了一种基于微电子加工工艺的新型冷阴极微栅孔阵列制备技术。在该技术中,利用微电子加工技术制备出具有规则排列的微米级孔洞结构,并通过电沉积工艺形成冷阴极微栅,实现了对电子场发射效率的显著提升。关键词:冷阴极微栅孔阵列、电子场发射、微电子加工技术、电沉积工艺1.引言冷阴极微栅孔阵列是一种应用于现代电子技术领域中的重要技术。该技术不仅可以用于制
基于氧化锡薄膜的表面传导场致发射阴极阵列的制备及性能研究.docx
基于氧化锡薄膜的表面传导场致发射阴极阵列的制备及性能研究一、引言表面场致发射(FieldEmission,FE)作为一种新型电子发射技术,具有高发射电流密度、小尺寸、低功率等优点,在微电子学、平板显示、微型真空电子学和薄膜技术等领域有广泛的应用。其中,阴极是表面场致发射技术的核心,对阴极性能的研究是提高FE技术的关键。二、氧化锡薄膜阴极阵列制备方法1.沉积氧化锡薄膜采用射频磁控溅射法,在石英衬底上沉积氧化锡薄膜。制备条件为氧化锡目标,氧流量为10SCCM,氩气流量为40SCCM,射频功率为100W,沉积时