脉冲叠加直流偏压电弧离子镀TiCrN_x薄膜的制备与性能研究.docx
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脉冲叠加直流偏压电弧离子镀TiCrN_x薄膜的制备与性能研究本文将介绍脉冲叠加直流偏压电弧离子镀TiCrN_x薄膜的制备与性能研究。首先,我们将介绍该工艺的原理和过程;其次,我们将探讨薄膜的微观结构、物理性质和机械性质;最后,我们将总结制备工艺和该薄膜的应用前景。一、脉冲叠加直流偏压电弧离子镀的原理和过程脉冲叠加直流偏压电弧离子镀(PVD)是一种金属薄膜制备技术,它利用电弧放电产生金属离子,然后将这些离子沉积在基底表面形成薄膜。脉冲叠加直流偏压电弧离子镀的特点是电弧点数可以控制,而且制备过程中可以调节负载
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