一种适宜高寒山区种植作物的W型覆膜栽培结构.pdf

(19)中华人民共和国国家知识产权局*CN103120106A*(12)发明专利申请(10)申请公布号(10)申请公布号CNCN103120106103120106A(43)申请公布日2013.05.29(21)申请号201110368495.X(22)申请日2011.11.20(71)申请人孙秀芝地址035700山西省晋中市和顺县滨河小区15号楼3单元102室(72)发明人孙秀芝吕风林(74)专利代理机构太原晋科知识产权代理事务所(特殊普通合伙)14110代理人郑晋周(51)Int.Cl.A01G13/02(2006.01)A01G1/00(2006.01)权权利要求书1页利要求书1页说明书3页说明书3页附图2页附图2页(54)发明名称一种适宜高寒山区种植作物的W型覆膜栽培结构(57)摘要本发明公开了一种适宜高寒山区种植作物的地膜覆盖栽培方法，包括轮作与整地、合理沟施肥料、W形地膜覆盖、选用良种与种子处理、适期播种与播种方式和田间管理。本发明以W形地膜覆盖技术为核心，覆膜较播种提前了8-12天，到播种时的膜下5cm的温度较先播种后覆膜的现有技术平均提高了1.7-2.0℃，膜下0-10cm的含水量提高了6.1-8.8个百分点起到了增温、保墒的作用。W形地膜覆盖在地膜平面上出现的播种穴，覆膜后只要有降雨，每个播种穴可积流1-2平方尺的降水，使无效降雨变成有效降水，起到了积流增墒的作用。配套其它栽培措施，其增产增收效果十分显著，经多年的试验表明，本发明较现有技术增产幅度在11.3%-21.4%。CN103120106ACN10326ACN103120106A权利要求书1/1页1.一种适宜高寒山区种植作物的W型覆膜栽培结构，包括透明膜（1）覆盖的地垄，其特征在于所述地垄的横截面是由垄沟（4）与垄背（3）相间构成的W型结构，所述垄沟（4）深度为5-10cm，两垄沟中心间距为35-40cm。2.根据权利要求1的一种适宜高寒山区种植作物的W型覆膜栽培结构，其特征在于置于垄沟(4)上部的透明膜（1）上等距离设置有种植孔（2），种植孔上压有覆盖土（5）。2CN103120106A说明书1/3页一种适宜高寒山区种植作物的W型覆膜栽培结构技术领域[0001]本发明涉及农作物栽培技术领域，具体涉及在高寒山区种植玉米、马铃薯和谷子等作物的地膜覆盖栽培结构。背景技术[0002]地膜覆盖栽培是通过在种植作物的土地上覆盖塑料薄膜，提高土壤温度、保持土壤水分和养分，创造适合作物生长的土壤生态环境达到增加作物产量的目的，它是二十世纪农作物高产栽培的关键技术之一，在我国广大地区的农业生产上得到了广泛的应用。在我国北纬370以上、海拔1000米以上的高寒山区，由于地膜覆盖栽培技术的推广，使原来不能成熟的高产性状好的玉米品种在当地安家落户了，使马铃薯、谷子等作物的产量同比提高了20%以上。但是，多年来，地膜覆盖栽培的现有技术都是先播种，然后地膜覆盖，最后再拔苗定植，其增产幅度稳定在一定水平。如果在现有地膜覆盖技术进行技术改进，通过进一步提高土壤增温、保墒的功能，在此基础上再增加蓄水的作用，将能进一步显著的提高高寒山区种植作物的产量。发明内容[0003]为克服现有技术的不足，本发明提供一种适宜高寒山区种植作物的W型覆膜栽培结构，该项技术的增产增收效果十分显著。[0004]本发明的一种适宜高寒山区种植作物的W型覆膜栽培结构，包括透明膜覆盖的地垄，其特征在于所述地垄的横截面是由垄沟与垄背相间构成的W型结构，所述垄沟深度为5-10cm，两垄沟中心间距为35-40cm。[0005]所述的一种适宜高寒山区种植作物的W型覆膜栽培结构，其特征在于置于垄沟上部的透明膜上等距离设置有种植孔，种植孔上压有覆盖土。[0006]本发明以W形地膜覆盖栽培技术，与现有地膜覆盖播种程序的播种、铺膜、放苗不同，突出的特点是先起垄，后覆膜，然后打孔播种，覆膜较播种提前了8—12天，起到了增温、保墒的作用，经多年的试验表明，提前8—12天的覆膜，到播种时的膜下5cm的温度较先播种后覆膜现有技术平均提高了1.7-2.0℃，膜下0-10cm的含水量提高了6.1-8.8个百分点。为种子的萌动打好了良好的基础，出苗比对照可提早了5-8天，出苗率提高了4%-5%，保证了苗全苗旺，为增产增收打下好的基础。[0007]本发明在垄沟打孔播种，打孔播种器提起带起的土壤将地膜孔埋住，因此地膜在播种穴处因土壤重压呈凹陷状，正是在地膜平面上出现的播种穴，起到了积流增墒的作用，覆膜后，只要有降雨，每个播种穴可积流1-2平方尺的降水，使无效降雨变成有效降水，将有限的春雨有效的积流到苗的根部，其增产增收效果十分显著。经多年的试验表明，本发明较现有覆膜技术增产幅度在11.3%-21.4%。3CN103120106A说明书2/3页附图说