化学气相沉积渗透技术综述.docx
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化学气相沉积渗透技术综述化学气相沉积渗透技术综述引言化学气相沉积渗透技术(ChemicalVaporInfiltration,CVI)是一种常用于制备陶瓷复合材料的工艺。它通过气相反应在陶瓷预制件的表面沉积出陶瓷材料,以填充预制件中的孔隙,提高材料的密实度和性能。本文将从CVI的基本原理、主要应用以及发展趋势等方面进行综述。一、CVI的基本原理CVI是一种使气体中的前体物质在高温下发生气相反应并在基体表面沉积的工艺。其基本原理是:在适当的反应条件下,在H2、N2等惰性气氛中,把含有金属有机化合物、氰胺树脂
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化学气相沉积技术化学气相沉积技术(ChemicalVaporDeposition,CVD)是一种在气体环境下进行的化学反应过程,通过在固体表面上沉积出一层薄膜或涂层的方法。该技术在材料科学、纳米技术、电子学、光学等领域得到了广泛应用。一、化学气相沉积技术的基本原理化学气相沉积技术是利用气相中的化学反应来生成或沉积出所需的薄膜或涂层。通常情况下,该技术需要将一种或多种反应物气体输送到反应室中,然后在固体表面上发生化学反应,最终生成所需的薄膜或涂层。根据反应条件和反应机理的不同,化学气相沉积技术可以分为几种不
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化学气相沉积技术目录化学气相沉积技术的基本概念化学气相沉积技术(CVD)是一种材料表面改性技术。是把含有构成薄膜元素的一种或几种化合物、单质气体供给基体,借助气相作用或在基体表面上的化学反应在基体上制得金属或化合物薄膜的方法。它可以利用气相间的反应,在不改变基体材料成分和不消弱基体材料强度的条件下,赋予材料表面一些特殊的性能。从气相中析出的固体的形态主要有下列几种:⑴.在固体表面上生成薄膜、晶须和晶粒⑵.在气体中生成粒子化学气相沉积技术的分类化学气相沉积技术的发展历程CVD是建立在化学反应基础上的,要制备
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化学气相沉积技术目录化学气相沉积技术的基本概念化学气相沉积技术(CVD)是一种材料表面改性技术。是把含有构成薄膜元素的一种或几种化合物、单质气体供给基体,借助气相作用或在基体表面上的化学反应在基体上制得金属或化合物薄膜的方法。它可以利用气相间的反应,在不改变基体材料成分和不消弱基体材料强度的条件下,赋予材料表面一些特殊的性能。从气相中析出的固体的形态主要有下列几种:⑴.在固体表面上生成薄膜、晶须和晶粒⑵.在气体中生成粒子CVD技术化学气相沉积技术的发展历程CVD是建立在化学反应基础上的,要制备特定性能材料
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化学气相沉积技术目录化学气相沉积技术的基本概念化学气相沉积技术(CVD)是一种材料表面改性技术。是把含有构成薄膜元素的一种或几种化合物、单质气体供给基体,借助气相作用或在基体表面上的化学反应在基体上制得金属或化合物薄膜的方法。它可以利用气相间的反应,在不改变基体材料成分和不消弱基体材料强度的条件下,赋予材料表面一些特殊的性能。从气相中析出的固体的形态主要有下列几种:⑴.在固体表面上生成薄膜、晶须和晶粒⑵.在气体中生成粒子化学气相沉积技术的分类化学气相沉积技术的发展历程CVD是建立在化学反应基础上的,要制备