低介电常数聚酰亚胺制备的研究进展.docx
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低介电常数聚酰亚胺制备的研究进展.docx
低介电常数聚酰亚胺制备的研究进展随着电子技术和通信技术的不断发展,对高速数据传输和电子器件小型化的需求越来越迫切,而低介电常数聚酰亚胺材料的制备具有独特的优势,成为了当前研究的热点之一。低介电常数材料是一类相对介电常数小于4的材料。在高频传输和微电子器件中,使用低介电常数材料可以降低信号延迟和耗散,提高电路的吞吐量和可靠性,同时能够降低串扰和耦合噪声等问题。因此,低介电常数材料成为微电子器件中必不可少的材料。聚酰亚胺(PI)作为一种高性能、高温、高强度、高刚度、高阻燃、耐辐照聚合物,被广泛应用于电子、航空
低介电常数聚酰亚胺及其制备方法.pdf
本发明涉及聚酰亚胺材料技术领域,尤其是一种低介电常数聚酰亚胺及其制备方法。所述低介电常数聚酰亚胺薄膜,包括下列质量百分比的组分:70~95%的聚酰亚胺,4~20%的聚四氟乙烯,1~20%的增强填料,上述组分的百分比之和为100%。本发明所述聚酰亚胺薄膜介电常数可至0.28~0.30之间,而且制备工艺简单、原料成本低廉。另外,本发明所述聚酰亚胺薄膜在降低材料介电常数的同时还能保留、甚至提高材料的强度、模量和尺寸稳定性。
低介电常数聚酰亚胺薄膜的制备与性能研究.docx
低介电常数聚酰亚胺薄膜的制备与性能研究摘要:本文研究了低介电常数聚酰亚胺薄膜的制备过程和性能,采用了不同的制备方法和材料,通过理化性能测试和表征鉴定,分析了薄膜的介电常数、热稳定性、机械性能等方面的特点,为低介电常数聚酰亚胺薄膜的应用提供了一定的参考。关键词:低介电常数;聚酰亚胺薄膜;制备方法;性能研究1.引言随着电子产品的普及和应用领域的扩大,对于材料的要求也越来越高。在电子产品中,低介电常数的材料应用广泛,因为这种材料可以减少电路中的信号延迟和互相干扰的现象,提高电路性能和速度。聚酰亚胺是一种具有优良
低介电常数聚酰亚胺复合薄膜的制备及性能研究.docx
低介电常数聚酰亚胺复合薄膜的制备及性能研究低介电常数聚酰亚胺复合薄膜的制备及性能研究摘要:低介电常数聚酰亚胺复合薄膜在电子封装和微电子器件中有广泛的应用。本研究以聚酰亚胺为基体,通过添加低介电常数的填料,制备了复合薄膜,并对其性能进行了详细研究。结果表明,填料的添加使得复合薄膜的介电常数显著降低,同时保持了较高的机械和热稳定性。因此,该复合薄膜具有潜在的应用前景。关键词:低介电常数、聚酰亚胺、复合薄膜、性能研究1.引言在电子封装和微电子器件中,低介电常数材料的应用越来越重要。传统的聚酰亚胺材料具有优异的机
低介电常数及低光泽度的聚酰亚胺膜及其制备方法.pdf
本发明公开了一种聚酰亚胺膜及其制备方法,该聚酰亚胺膜具有低介电常数及低光泽度,其包括构成该膜主结构的聚酰亚胺、0.5wt%至5wt%的碳黑、及15wt%至40wt%的含氟高分子。该聚酰亚胺膜可为单层膜或多层膜。