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(19)中华人民共和国国家知识产权局*CN103252701A*(12)发明专利申请(10)申请公布号(10)申请公布号CNCN103252701103252701A(43)申请公布日2013.08.21(21)申请号201310147251.8(22)申请日2013.04.25(71)申请人李汉超地址528061广东省佛山市禅城区南庄镇上元永安村153号(72)发明人李汉超(74)专利代理机构佛山市永裕信专利代理有限公司44206代理人陈思聪(51)Int.Cl.B24B29/02(2006.01)B28B11/04(2006.01)B28B11/08(2006.01)权权利要求书1页利要求书1页说明书3页说明书3页附图4页附图4页(54)发明名称陶瓷设备用的防污抛光装置(57)摘要本发明涉及陶瓷设备用的防污抛光装置,包括有机架、装于机架上的电机、由电机驱动的转轴、装于机架下部由转轴带动的转盘、装于转盘下方的多个磨头,其特征在于:所述的电机分为主电机和副电机,所述的转轴分为主轴和副轴,副轴套装于主轴外形成两轴各自独立旋转的同心轴结构,而主轴上部通过第一皮带及皮带轮由主电机驱动、副轴通过第二皮带及皮带轮由副电机驱动,副轴下部通过轴套与转盘固连联动,主轴下部则穿过转盘,其下端部通过第三皮带及皮带轮驱动转盘下方的磨头,这样的设计,使用的能耗低、防污处理效果好、生产工作效率高、维修维护便捷、使用成本低廉,可广泛配套应用于各种陶瓷加工设备。CN103252701ACN103257ACN103252701A权利要求书1/1页1.陶瓷设备用的防污抛光装置,包括有机架、装于机架上的电机、由电机驱动的转轴、装于机架下部由转轴带动的转盘、装于转盘下方的多个磨头,其特征在于:所述的电机分为主电机和副电机,所述的转轴分为主轴和副轴,副轴套装于主轴外形成两轴各自独立旋转的同心轴结构,而主轴上部通过第一皮带及皮带轮由主电机驱动、副轴通过第二皮带及皮带轮由副电机驱动,副轴下部通过轴套与转盘固连联动,主轴下部则穿过转盘,其下端部通过第三皮带及皮带轮驱动转盘下方的磨头。2.根据权利要求1所述的防污抛光装置,其特征是,每个磨头均通过磨头座安装于转盘下方,每个磨头的磨头座上均设有双皮带轮,双皮带轮上分别连接两条磨头皮带,这样,磨头皮带将相邻的磨头两两相互传动连接,将转盘下方的所有磨头等速同步联动。3.根据权利要求1或2所述的防污抛光装置,其特征是主轴下端部的第三皮带及皮带轮只驱动转盘下方的一个磨头,该磨头为主动磨头,由该主动磨头通过磨头皮带带动其余磨头旋转。4.根据权利要求1或2或3所述的防污抛光装置,其特征是机架上设有用于调整磨头上下位移的升降气缸。5.根据权利要求1或2或3所述的防污抛光装置,其特征是装于转盘下方的磨头数量为4—10个。2CN103252701A说明书1/3页陶瓷设备用的防污抛光装置技术领域[0001]本发明涉及陶瓷砖产品生产加工设备的技术领域,特别是用于陶瓷砖面防污处理的装置。背景技术[0002]目前,陶瓷砖产品在生产加工过程中,尤其是抛光加工之后,需要对砖面进行防污的加工处理,即在抛光好的砖面上涂覆防污、防渗材料,通过防污材料覆盖瓷砖表面的微孔,形成防污层,从而提高瓷砖表面的抗污性能。防污材料的布施主要由防污装置的磨头旋转研磨完成。传统的防污装置采用一转盘装多个磨头结构,一般为六个,且每个磨头上都装配有驱动电机,每个磨头直接由电机驱动,而所装电机的功率一般为2.2KW,其缺点是:一方面,防污加工处理是由10-20组防污装置串联连排工作的,数十甚至过百台电机同时工作,生产加工时用电量极大、能耗较高,另一方面,由于装置的工作环境温度较高,而使用到的防污材料又是易燃液体,其与电机的距离又较近,这样存在较大的安全隐患,容易起火燃烧,再有,高温的工作环境也不利于电机的正常使用,电机常常容易烧毁,影响设备的正常使用。对此,有的防污装置进行了改进,取消了磨头上的电机,只使用一组较大功率的电机,通过齿轮传动来驱动各个磨头。这样可以大大减少了电机的能耗,但齿轮传动机构的砖盘转速较低,导致磨头的转速也难以较大提高,低转速的磨头防污处理的效果差,无法推广应用。而且,齿轮机构的密封性能差,齿轮上的润滑油容易滴落在陶瓷砖面,对产品造成二次污损。长期使用,齿轮传动机构的耐用性较差,维修维护成本高。发明内容[0003]本发明的目的是克服上述传统技术的不足之处,提出一种能耗低、防污效果好、工作效率高、维修维护便捷、使用成本低廉的陶瓷设备用的防污抛光装置。[0004]本发明的目的是通过如下技术方案实现的:陶瓷设备用的防污抛光装置,包括有机架、装于机架上的电机、由电机驱动的转轴、装于机架下部由转轴带动的转盘、装于转盘下方的多个磨头,其特征在于:所述的电机分为主电机和副电机,