柔性PI衬底上ITO薄膜的制备及性能研究.docx
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柔性PI衬底上ITO薄膜的制备及性能研究柔性PI衬底上ITO薄膜的制备及性能研究摘要:以柔性聚酰亚胺(PI)衬底为基板,采用射频磁控溅射技术制备了具有优异性能的氧化铟锡(ITO)薄膜。通过分析不同工艺条件对ITO薄膜结构、光学和电学性能的影响,研究了柔性PI衬底上ITO薄膜的制备及性能。关键词:柔性PI衬底,ITO薄膜,射频磁控溅射,结构,光学性能,电学性能一、引言柔性电子技术是近年来兴起的一种新兴技术,具有重要的应用前景。作为柔性电子器件的关键组成部分,导电薄膜的制备和性能研究对柔性电子技术的发展至关重
工艺条件对柔性衬底ITO薄膜光电性能的影响.docx
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有机薄膜衬底 ITO 透明导电膜的制备及光电特性的研究.docx
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