PVD设备及工艺简介.ppt
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相关资料
PVD设备及工艺简介.ppt
4.电离真空规:由收集极、栅网、灯丝构成。热阴极灯丝发射的电子;由带正电的栅网进行加速,得到充足的撞击能量;气体分子与高速飞行的电子发生碰撞而被电离,碰撞的频率与气体分子的密度有关。密度大,碰撞的频率就高,产生的离子也越多,反之就越小;而气体分子的密度又与气体的压强有着直接关系,因此,如果能测定气体中被电离的离子流的大小,即可确定气体的压强;带负电压的收集极捕获被电离的气体离子,就形成了与气体压强成比例的电流,测到了真空度。
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4.电离真空规:由收集极、栅网、灯丝构成。热阴极灯丝发射的电子;由带正电的栅网进行加速,得到充足的撞击能量;气体分子与高速飞行的电子发生碰撞而被电离,碰撞的频率与气体分子的密度有关。密度大,碰撞的频率就高,产生的离子也越多,反之就越小;而气体分子的密度又与气体的压强有着直接关系,因此,如果能测定气体中被电离的离子流的大小,即可确定气体的压强;带负电压的收集极捕获被电离的气体离子,就形成了与气体压强成比例的电流,测到了真空度。
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4.电离真空规:由收集极、栅网、灯丝构成。热阴极灯丝发射的电子;由带正电的栅网进行加速得到充足的撞击能量;气体分子与高速飞行的电子发生碰撞而被电离碰撞的频率与气体分子的密度有关。密度大碰撞的频率就高产生的离子也越多反之就越小;而气体分子的密度又与气体的压强有着直接关系因此如果能测定气体中被电离的离子流的大小即可确定气体的压强;带负电压的收集极捕获被电离的气体离子就形成了与气体压强成比例的电流测到了真空度。
PVD工艺知识.ppt
PVD工艺知识PVD工艺知识Primer作用:遮盖产品表面油污、脱模剂、浮纤而导致的喷涂成品良率偏低,注意事项:primer的选用依据塑材的不良缺陷,不同的缺陷对应不同类型的涂料a.抗油型(只需薄喷3-5微米);b.遮盖型(根据塑材缺陷来选择膜厚通常10-20微米范围内浮动)底漆作用:1.塑料表面粗糙通过底漆可以获得光滑平整的镜面效果;2.保证与塑材的附着和塑材缺陷的遮盖性;注意事项:需要根据塑材/性能等情况对底漆做出不同的选择:a.遮盖性较好底漆(即可以将膜厚喷涂很厚且不容易积油膜厚范围12-25微米)
pvd工艺过程.doc
Pvd工艺流程涂层技术及工艺流程涂层技术及工艺流程涂层技术及工艺流程涂层技术及工艺流程1.真空涂层技术旳发展真空涂层技术起步时间不长,国际上在上世纪六十年代才出现将CVD(化学气相沉积)技术应用于硬质合金刀具上。由于该技术需在高温下进行(工艺温度高于1000ºC),涂层种类单一,局限性很大,因此,其发展初期未免差强人意。到了上世纪七十年代末,开始出现PVD(物理气相沉积)技术,为真空涂层开创了一种充斥灿烂前景旳新天地,之后在短短旳二、三十年间PVD涂层技术得到迅猛发展,究其原因,是由于其在真空密封旳腔体内