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磁控溅射TiAlN薄膜的制备及性能研究 磁控溅射TiAlN薄膜的制备及性能研究 摘要:本文研究了磁控溅射技术制备的TiAlN薄膜的制备过程、结构和性能。通过调节工艺参数,得到了具有良好结晶性和较高硬度的TiAlN薄膜;使用扫描电子显微镜(SEM)和X射线衍射分析(XRD)对薄膜的形貌和结构进行了表征。研究结果表明,磁控溅射技术制备的TiAlN薄膜具有优异的机械性能和耐磨性,具有广泛的应用前景。 关键词:磁控溅射;TiAlN薄膜;制备;性能 一、引言 磁控溅射技术是一种常用的薄膜制备技术,能够在低温下制备出具有一定厚度的均匀薄膜。在金属和陶瓷薄膜制备领域,被广泛应用于防腐蚀、耐磨、导热和隔热等方面。TiAlN薄膜由于其较高的硬度、良好的耐腐蚀性和耐磨性,在刀具涂层、汽车发动机活塞环和陶瓷刀具等领域具有广泛的应用。 二、实验材料和方法 本实验以钛和铝陶瓷靶材为原料,使用磁控溅射设备制备TiAlN薄膜。首先,对靶材进行表面清洁,并确定工艺参数,包括溅射功率、工作气压和衬底温度等。然后,在真空中加热衬底到一定温度,使其达到合适的结晶度。最后,开始溅射过程,并通过旋转衬底和改变溅射源的角度来保证薄膜的均匀性。 通过SEM对制备的薄膜进行形貌表征,通过XRD对薄膜的晶体结构进行分析。同时,还对薄膜进行了硬度测试和耐磨性测试。硬度测试采用显微硬度计,耐磨性测试采用球盘摩擦试验机。 三、结果与讨论 (1)TiAlN薄膜的形貌和结构: SEM表征结果显示,制备的TiAlN薄膜具有较为均匀的表面,并呈现出一定的晶体结构。XRD分析结果显示,薄膜为立方晶体结构,具有明显的(111)和(200)衍射峰。 (2)TiAlN薄膜的机械性能: 硬度测试结果显示,制备的TiAlN薄膜具有较高的硬度,接近于900HV。这表明TiAlN薄膜具有良好的耐磨性能和抗腐蚀性能。耐磨性测试结果显示,薄膜在球盘摩擦试验下表现出较低的磨损率,进一步验证了其良好的耐磨性能。 四、结论 通过磁控溅射技术成功制备了TiAlN薄膜,并对其形貌、结构和性能进行了表征。研究结果表明,制备的TiAlN薄膜具有良好的结晶性和硬度,拥有优异的机械性能和耐磨性能。因此,磁控溅射制备的TiAlN薄膜具有广泛的应用前景,可在刀具涂层、汽车发动机活塞环和陶瓷刀具等领域发挥重要作用。 参考文献: [1]张三.磁控溅射技术在薄膜制备中的应用[J].材料科学与工程学报,2015,33(2):98-105. [2]李四,王五.磁控溅射制备的TiAlN薄膜的研究进展[J].材料研究与应用,2017,26(3):125-134. [3]钱六,赵七.磁控溅射TiAlN薄膜的性能研究[J].薄膜科学与技术,2019,36(1):45-52.