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多铁性复合薄膜的结构及2-2型双层复合磁电薄膜的制备方法
随着电子技术的不断发展，多铁性材料作为一种新型材料开始引起科学家广泛的关注。多铁性材料具有磁性和铁电性的特性，具有广阔的应用前景。在多铁性材料中，多铁复合薄膜因其较好的可控性、可制备性和较好的性能等优势而备受研究者的关注。本文将介绍多铁复合薄膜的结构，以及制备2-2型双层复合磁电薄膜的方法。
一、多铁复合薄膜的结构
多铁复合薄膜是将不同的多铁性材料薄层结合在一起，形成复合薄膜结构。多铁复合薄膜的结构可以分为三种：0-3型、1-3型和2-2型。
1、0-3型多铁复合薄膜
0-3型多铁复合薄膜是由非铁性基质中嵌入铁性颗粒形成的复合材料。由于复合材料中的颗粒直径相对较大，所以制备难度较大，同时难以满足铁电和磁电耦合的需要。
2、1-3型多铁复合薄膜
1-3型多铁复合薄膜是指铁性纳米颗粒分布在非铁性基质中，形成结构为颗粒-基质-颗粒的三维式复合结构。由于铁性颗粒在基质中的颗粒间距离比较远，因此难以发挥出铁电和磁电的耦合效果。
3、2-2型多铁复合薄膜
2-2型多铁复合薄膜是最优化的多铁复合薄膜结构。其由两个不同的铁性材料薄层和一个非铁性基质组成。这种结构的优点在于可以在两个铁性薄层之间发挥较好的磁电和铁电耦合效应。
二、2-2型双层复合磁电薄膜制备方法
1、化学蒸气沉积法（CVD法）
CVD法是通过热解金属有机化合物进行薄膜的制备。该法制备的双层复合磁电薄膜具有较高的结晶度和密度，但必须保证材料的化学性质相同，且耦合效应弱。
2、溶胶-凝胶法
溶胶-凝胶法制备的双层复合磁电薄膜比较简单，并具有较好的可控性。这种方法的优点在于可以调节不同化学性质的材料，从而增强铁电和磁电之间的耦合效应。
3、离子束溅射法
离子束溅射法是通过把材料固态形态的靶材溅射到基板上进行制备。该法可以非常准确地控制薄膜的厚度，并在不同的铁性材料表面沉积，形成具有铁电和磁电特性的复合薄膜。但也存在由于薄膜的制备过程中，靶材受到氩离子轰击而产生的高温热弹应力特性的问题。
综上所述，多铁复合薄膜是一种新型的多功能材料，具有广泛的应用前景。制备2-2型双层复合磁电薄膜的方法有多种，需要根据材料性质和工艺要求进行选择。研究者们对多铁复合薄膜的结构、制备方法和应用领域等方面都进行了深入研究，相信这种新型多功能材料会在未来得到广泛的应用。