反渗透清洗方案.docx

山东泰山造纸有限公司
50T/H反渗透系统清洗方案
一概述
山东泰山造纸有限公司现有50T/H反渗透系统2套，因长时间使用，产水量、脱盐率及反渗透膜段间压差现已不能达到原设计要求，已不能满足生产用水的要求，并且＃2段间压差已经达到4kg/cm2，反渗透膜已处于随时被击穿的可能，给锅炉的安全运行、全厂的生产造成潜在危险。虽经多次清洗但是效果并不明显。经过我公司技术人员现场勘查及与运行人员了解，特制定如下技术方案,请领导审阅！
二现反渗透系统运行参数
原水电导率：850μs/cm
＃1系统
产水电导：25μs/cm
产水量：47m3/h
因为我公司技术人员去的时候没有运行，以上数据由运行人员提供。
＃2系统
产水电导：16μs/cm
产水量：40m3/h
膜前压力：1.5MPa
段间压力：1.1MPa
膜后压力：0.6MPa
纯水压力：0.25MPa
以＃2反渗透系统为例进行数据分析：
产水量已经严重下降，下降幅度为20％，一段段间压差已经达到4kg/cm2，
二段段间压差已经达到5kg/cm2，压差是衡量反渗透系统是否运行良好的一个重要指标，比产水电导稍微升高危害性更大，压差达到4kg/cm2的时候，反渗透系统的重要部件-反渗透膜就有随时被击穿的可能，造成严重后果。
三反渗透膜污染成因
在正常运行一段时间后，反渗透膜元件会受到给水中可能存在的悬浮物或难溶盐的污染，这些污染中最常见的是碳酸钙沉淀、硫酸钙沉淀、金属(铁、锰、铜、镍、铝等)氧化物沉淀、硅沉积物、无机或有机沉积混合物、NOM天然有机物质、合成有机物(如：阻垢剂/分散剂，阳离子聚合电解质)、微生物(藻类、霉菌、真菌)等污染。
四反渗透膜元件的污染与清洗在正常运行一段时间后，反渗透膜元件会受到给水中可能存在的悬浮物或难溶盐的污染，这些污染中最常见的是碳酸钙沉淀、硫酸钙沉淀、金属(铁、锰、铜、镍、铝等)氧化物沉淀、硅沉积物、无机或有机沉积混合物、NOM天然有机物质、合成有机物(如：阻垢剂/分散剂，阳离子聚合电解质)、微生物(藻类、霉菌、真菌)等污染。污染性质和污染速度取决于各种因素，如给水水质和系统回收率。通常污染是渐进发展的，如不尽早控制，污染将会在相对较短的时间内损坏膜元件。当膜元件确证已被污染，或是在长期停机之前，或是作为定期日常维护，建议对膜元件进行清洗。当反渗透系统（或装置）出现以下症状时，需要进行化学清洗或物理冲洗：在正常给水压力下，产水量较正常值下降10～15%；为维持正常的产水量，经温度校正后的给水压力增加10～15%；产水水质降低10～15%，透盐率增加10～15%；给水压力增加10～15%；系统各段之间压差明显增加。保持稳定的运行参数主要是指产水流量、产水背压、回收率、温度及TDS。如果这些运行参数起伏不定，建议检查是否有污染发生，或者在关键运行参数有变化的前提下反渗透的实际运行是否正常。定时监测系统整体性能是确认膜元件是否已发生污染的基本方法。污染对膜元件的影响是渐进的，并且影响的程度取决于污染的性质。已受污染的反渗透膜的清洗周期根据现场实际情况而定。正常的清洗周期是每3-12个月一次。当膜元件仅仅是发生了轻度污染时，重要的是清洗膜元件。重度污染会因阻碍化学药剂深入渗透至污染层，影响清洗效果。清洗何种污染物以及如何清洗要根据现场污染情况而进行。对于几种污染同时存在的复杂情况，清洗方法是采用低PH和高PH的清洗液交替清洗（应先低PH后高PH值清洗）。表1反渗透膜污染特征及处理方法五污染情况分析碳酸钙垢：碳酸钙垢是一种矿物结垢。当阻垢剂/分散剂添加系统出现故障时，或是加酸pH调节系统出故障而引起给水pH增高时，碳酸钙垢有可能沉积出来。尽早地检测碳酸钙垢，对于防止膜层表面沉积的晶体损伤膜元件是极为必要的。
硫酸钙、硫酸钡、硫酸锶垢：硫酸盐垢是比碳酸钙垢硬很多的矿物质垢，且不易去除。硫酸盐垢可在阻垢剂/分散剂添加系统出现故障或加硫酸调节pH时沉积出来。尽早地检测硫酸盐垢对于防止膜层表面沉积的晶体损伤膜元件是极为必要的。硫酸钡和硫酸锶垢较难去除，因为它们几乎在所有的清洗溶液中难以溶解，所以，应加以特别的注意以防止此类结垢的生成。金属氧化物/氢氧化物污染：典型的金属氧化物和金属氢氧化物污染为铁、锌、锰、铜、铝等。这种垢的形成导因可能是装置管路、容器(罐/槽)的腐蚀产物，或是空气中氧化的金属离子、氯、臭氧、钾、高锰酸盐，或是由在预处理过滤系统中使用铁或铝助凝剂所致。聚合硅垢：硅凝胶层垢由溶解性硅的过饱和态及聚合物所致，且非常难以去除。这种硅的污染不同于硅胶体物的污染。硅胶体物污染可能是由与金属氢氧化物缔合或是与有机物缔合而造成的。
胶体污染：
胶体是悬浮在水中的无机物或是有机与无机混合物的颗粒，它不会由于自身重力而沉淀。胶体物通常含有以下一个或多个主要组份，如：铁、铝