TiAlSiN涂层刀具的发展与应用.docx
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TiAlSiN涂层刀具的发展与应用随着现代制造业的不断发展,刀具作为加工工具的重要组成部分在加工过程中扮演着至关重要的角色。与此同时,刀具涂层技术也得到了广泛的关注和研究,其中TiAlSiN涂层技术不仅在切削性能方面具有很大的优势,同时也在加工精度和表面质量等方面有着显著的提升。一、TiAlSiN涂层刀具的优势1.高硬度:TiAlSiN涂层的硬度很高,在钻孔、铣削、车削、深孔加工等高强度切削中表现出色。2.耐高温:TiAlSiN涂层具有很好的抗氧化性能和稳定性,使其在高温环境下能够长时间保持优良的切削性能
一种TiAlSiN涂层刀具制备工艺.pdf
本发明公开了一种TiAlSiN涂层刀具的制备工艺,基底材料为YG8硬质合金刀具。制备过程包括材料前处理,抽真空与升温,基体清洗,沉积TiAlSiN涂层,冷却出炉。TiAlSi合金靶作为靶材,使用多弧离子镀的方法,电弧在低压下放电,产生高温使阴极TiAlSi靶材蒸发并产生等离子体,然后与N
涂层刀具的发展与应用_(NXPowerLite).ppt
涂层刀具的发展与应用一气相沉积技术概述图1气相沉积技术分类及工艺方法1.2气相沉积技术特点不同气相沉积技术也具有不同的工艺特点。属于热平衡的CVD工艺技术气体反应源的温度远低于沉积反应温度。所以在沉积工艺中很容易改变反应源物质组份获得种类繁多的碳化物、氮化物、氧化物、硼化物、硅化物单金属和合金涂层。CVD涂层厚度和质量均匀一致涂层和基体结合强度高尤其对形状复杂面积大的物件更为适合。CVD装备相对要简单一些适合工业化生产。所以在气相沉积技术中CVD一直占有重要地位。CVD技术缺点是被涂层基体要
涂层刀具的发展与应用_(NXPowerLite).ppt
涂层刀具的发展与应用一气相沉积技术概述图1气相沉积技术分类及工艺方法1.2气相沉积技术特点不同气相沉积技术,也具有不同的工艺特点。属于热平衡的CVD工艺技术,气体反应源的温度远低于沉积反应温度。所以在沉积工艺中,很容易改变反应源物质组份,获得种类繁多的碳化物、氮化物、氧化物、硼化物、硅化物单金属和合金涂层。CVD涂层厚度和质量均匀一致,涂层和基体结合强度高,尤其对形状复杂,面积大的物件更为适合。CVD装备相对要简单一些,适合工业化生产。所以在气相沉积技术中,CVD一直占有重要地位。CVD技术缺点是被涂层基
涂层刀具的发展与应用 (NXPowerLite).ppt
涂层刀具的发展与应用一气相沉积技术概述图1气相沉积技术分类及工艺方法1.2气相沉积技术特点不同气相沉积技术,也具有不同的工艺特点。属于热平衡的CVD工艺技术,气体反应源的温度远低于沉积反应温度。所以在沉积工艺中,很容易改变反应源物质组份,获得种类繁多的碳化物、氮化物、氧化物、硼化物、硅化物单金属和合金涂层。CVD涂层厚度和质量均匀一致,涂层和基体结合强度高,尤其对形状复杂,面积大的物件更为适合。CVD装备相对要简单一些,适合工业化生产。所以在气相沉积技术中,CVD一直占有重要地位。CVD技术缺点是被涂层基