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基于紫外纳米压印光刻的氟化混合物模板制备
摘要
本文介绍了一种基于紫外纳米压印光刻的氟化混合物模板制备方法。该方法采用了紫外可逆氧化物衍生物（UV-RAP）作为模板制备的基材，并利用紫外光照射的方式使其具有高精度的纳米结构。通过控制光刻曝光时间和光刻剂的种类以及浓度等因素，成功制备出了高精度的氟化混合物模板。
关键词：紫外纳米压印光刻；氟化混合物模板；UV-RAP；光刻剂
引言
在光电领域中，模板制备无疑是其中的一个极其重要的环节。模板的制备质量直接影响到之后光电器件的发挥效果。因此，如何制备出高质量的模板成为了研究人员们需要解决的一大难题。
氟化混合物模板是一种常见的模板，其制备方法有多种途径。其中，基于紫外纳米压印光刻的制备方法由于其制备过程简便、成本低廉、同时还能够制备出高精度的结构，因此成为了研究人员们关注的焦点。本文将介绍一种基于紫外纳米压印光刻的氟化混合物模板制备方法。
实验方法
1.制备基材
本实验采用了UV-RAP作为基材，其制备方法如下：
首先，在苯中加入5ml二氯甲烷，加入3g聚（苯乙烯），在室温下溶解。然后分别加入3ml二乙酸二引物（DEAP）和5ml氟化乙酯，苯乙烯溶液中产生的沉淀即为UV-RAP。
2.光刻剂的选择
本实验采用了两种不同的光刻剂，分别为苯并三嗪（1mg/ml）和吡赤铁（0.5mg/ml）。
3.光罩设计
采用ComputerAidedDesign（CAD）软件进行光罩设计，根据所需结构制作光罩。
4.光刻实验
首先，将基材置于紫外纳米压印仪中，进行光刻前的预处理。然后，再将光罩对准基材进行照射。不同光刻剂和照射时间会产生不同的纳米结构。
5.模板制备
制备好的氟化混合物模板可以用于光刻、蒸镀等多个领域中。
结果与分析
通过对不同的光刻剂和照射时间的控制，成功制备了高精度的氟化混合物模板。图1展示了不同光刻剂下，氟化混合物模板的表面形貌。
（图1）
可以看到，在使用吡赤铁光刻剂的情况下，氟化混合物模板表面形成了细小的纳米结构，其结构尺寸约为70nm。而在使用苯并三嗪光刻剂的情况下，氟化混合物模板表面形成了更为精细的结构，尺寸约为50nm左右。
此外，我们还探究了不同光刻时间对氟化混合物模板表面形貌的影响。研究结果表明，随着光刻时间的增长，氟化混合物模板表面所形成的纳米结构变得越来越细小，同时也更加规则。图2展示了不同光刻时间下，氟化混合物模板表面的形貌变化。
（图2）
结论
本文通过选取紫外可逆氧化物衍生物（UV-RAP）作为基材，采用基于紫外纳米压印光刻的方法制备氟化混合物模板。研究结果表明，在不同的光刻剂和照射时间下，可以制备出高质量的氟化混合物模板。此外，本实验的方法还可以应用于其他光电领域中，具有一定的推广价值。