Sb-Na共掺p型ZnO的第一性原理研究.docx
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Sb-Na共掺p型ZnO的第一性原理研究.docx
Sb-Na共掺p型ZnO的第一性原理研究Sb-Na共掺p型ZnO的第一性原理研究摘要:Sb-Na共掺杂是一种有效提高氧化锌(ZnO)p型导电性的方法。本文采用第一性原理计算方法对Sb-Na共掺杂的ZnO进行了研究。研究结果表明,Sb和Na原子共掺进ZnO晶格能够有效改善其电子结构,使其成为p型半导体材料。深入理解Sb-Na共掺杂机制对于优化ZnO的电学性能具有重要意义。引言:氧化锌(ZnO)是一种重要的半导体材料,具有广泛的应用潜力。然而,ZnO的电学性能受到固有的本征性质的制约,在制备p型ZnO材料方面
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ZnO掺效应的第一性原理研究ZnO掺杂效应的第一性原理研究摘要:氧化锌(ZnO)是一种广泛应用于光电器件领域的半导体材料。通过掺杂其他原子,可以调控ZnO的电子结构和相关性质,从而扩展其应用领域。本文使用第一性原理方法研究了ZnO的掺杂效应,重点关注了掺杂原子对ZnO能带结构、能隙、载流子性质以及光电转换性能的影响。我们的研究结果揭示了掺杂效应对ZnO性质的重要影响,为进一步优化ZnO材料及其相关器件的设计和应用提供了理论基础。1.引言随着半导体技术的不断发展,ZnO作为一种宽禁带半导体材料,具有优异的光
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N-Al共掺p型ZnO薄膜制备及形成机理研究摘要本文以N-Al共掺p型ZnO薄膜为研究对象,采用磁控溅射法制备p型ZnO薄膜,并探究了其形成机理。研究结果表明,利用N-Al共掺的方法可以有效地制备出p型ZnO薄膜,掺杂浓度为2.1×10^18cm^-3时获得了最高的空穴浓度和最低的电阻率。薄膜形成机理方面,我们发现N和Al在ZnO晶格中的替代及相互作用导致了空穴减少,从而实现了p型掺杂。此外,高温烧结有助于提高薄膜的p型掺杂效果。本文的研究结果对于深入了解ZnO材料的掺杂机制和制备优质p型ZnO材料具有一
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ZnO掺效应的第一性原理研究的中期报告.docx
ZnO掺效应的第一性原理研究的中期报告本次研究旨在探究ZnO掺效对其电子结构和光学性质的影响,采用了第一性原理计算方法,通过VASP软件包计算模拟了不同掺杂情况下的晶体结构、电子能带结构和吸收光谱等性质。结论如下:1.ZnO的原始结构为六方密堆积,经过优化后得到a=3.221Å和c=5.212Å的晶体结构,与文献(P.E.Bl?chl,Phys.Rev.B50,17953(1994))结果相符。2.掺杂不同元素(Al、Ga、In、Cu)后,对ZnO的晶体结构影响较小,保持六方密堆积的结构,但晶格常数略有变