田螺浸泡清洗机.pdf

本发明提供一种田螺浸泡清洗机，包括浸泡机构和推送组件，浸泡机构包括机架、浸泡箱、滤水框、围框一、围框二、放料气缸，浸泡箱设于机架上，浸泡箱内设有不锈钢网板，不锈钢网板上设有滤水框，滤水框的顶部设有围框一，滤水框的侧部设有围框二和放料门，围框二的两侧分别设有用于容纳放料门的卡槽，卡槽内设有滚轮，放料门通过连接有放料气缸的活塞杆，放料气缸的底座连接在支架上，支架连接在围框一上，推送组件包括提升气缸、横板、行走轨、推送气缸；通过浸泡机构便捷实现对田螺的浸泡与清洗，使田螺将螺内脏污吐出。在浸泡时能够简便省力地换水

2023-10-12

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带超声波的魔芋浸泡清洗机.pdf

本发明一种带超声波的魔芋浸泡清洗机，其特征在于浸泡槽(2)设在支撑架(1)上，浸泡槽(2)中心轴线处设有中心轴(3)，中心轴(3)上设有搅拌棒(5)和出料搅笼(6)，中心轴(3)由电机(4)通过皮带带动，出料搅笼(6)处设有出料导板(7)，浸泡槽(2)底部设有出渣口(8)和超声波发生器(9)。本发明的有益效果：在浸泡清洗上加装了超声波部件，使搅拌的过程中进行超声波达到最好的浸泡清洗效果。解决了生产中易出损伤魔芋损失大的问题。

2023-06-02

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一种浸泡式清洗机.pdf

本发明涉及热处理工业设备领域，具体而言，涉及一种浸泡式清洗机。本发明公开了一种浸泡式清洗机，其包括本体以及安装在本体上的洗净室；洗净室上设有进液口、排液口以及物料入口，洗净室还包括用于排出液面浮油的浮油排出结构。该浸泡式清洗机能够有效排除浮在浸泡液的液面上的浮油，减少清洗液回落排空后在工件表面留下的浮油。

2023-11-19

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光刻版清洗机中浸泡腔工位设计分析.docx

光刻版清洗机中浸泡腔工位设计分析光刻版清洗机中浸泡腔工位设计分析摘要：光刻版清洗机是一种用于清洗光刻版的设备，其中的浸泡腔工位是主要的工作区域。本论文将对光刻版清洗机中浸泡腔工位的设计进行分析，包括工位结构、功能布置和操作流程等方面，旨在优化光刻版清洗机的工作效率和清洗效果。1.引言光刻版是半导体制造中的重要工艺步骤之一，其质量直接影响到芯片制造的质量。在光刻版的使用过程中，由于与化学物质的接触，表面会积累大量杂质和污染物，因此需要定期对光刻版进行清洗。光刻版清洗机作为一种专门的设备，被广泛应用于光刻版的

2024-10-20

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基片浸泡机构及基片浸泡装置.pdf

本申请提供了一种基片浸泡机构及基片浸泡装置，涉及半导体技术领域，包括：容纳构件，用于容纳基片；承载构件，与容纳构件连接于第一位置；施力构件，与容纳构件连接于第二位置；第一驱动组件，与施力构件连接，以驱动施力构件，施力构件被驱动以相对于承载构件运动时，容纳构件被施力构件驱动，而以第一位置为基准改变姿态。利用本申请提供的基片浸泡机构，使得在将容纳构件置于基片浸泡槽时，能够盖面容纳构件的姿态以更好的浸泡效果，还能够在基片浸泡结束后通过往复改变容纳构件姿态来将残留液体快速送回基片浸泡槽，提高基片转运效率并防止生产

2023-11-09

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