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石墨烯打开带隙研究进展 石墨烯是一种由碳原子按照六边形排列形成的二维材料,具有高导电性和高透明度等优异性能,因此被广泛应用于电子学和光电学领域。但是石墨烯缺乏带隙,即电子在石墨烯中能够任意移动,这在一些应用领域中具有限制性。因此,石墨烯打开带隙的研究受到了越来越多的关注。 石墨烯打开带隙的方法主要有两种:化学修饰和物理方法。化学修饰方法包括在石墨烯表面引入不同的官能团、掺杂等。例如,石墨烯氧化在制备过程中和后续的酸处理可以较为稳定地引入带隙。此外,石墨烯还可以通过电子掺杂的方式引入带隙,例如掺杂硼、氮、硅等元素,这些元素的原子半径与碳原子接近,容易被取代并且能够调控石墨烯的电子结构。 在化学修饰方法中,随着研究的深入,人们发现引入带隙通常会破坏石墨烯的优异电子输运性能。因此人们转向寻找物理方法来解决石墨烯发挥其高导电性和同时具备带隙的矛盾。 物理方法的研究还处于起步阶段,石墨烯打开带隙的物理方法具有独特的优点,如调制范围更广,可以控制细节尺寸和排列方式等。物理方法主要包括机械、电场和边缘构造等手段。 机械手段是其中最直观的一种方法,即通过拉伸、扭曲等方式改变石墨烯的晶格常数、形态和结构等,从而产生带隙。对于单层石墨烯,其机械构造可以通过施加局部张力来实现,通过纳米悬挂等技术可以获得单晶体的纳米线尺寸的样品,并且材料性能和构造可以轻松控制。扭曲手段通过扭曲角度和角度的时间演化可以调控石墨烯的电子性质,可以实现自发或手动调制石墨烯的带隙特性。 电场调制是另一种物理手段,其原理是在石墨烯表面施加电压,以改变石墨烯的电子能带结构。电场调制主要有两种方式:垂直和平行。垂直电场调制可以通过构造二维平行板电容器逐渐增加电场强度,进而产生带隙;而平行电场调制可以通过构造双栅结构等手段来实现。 边缘构造是通过人工构造石墨烯的边界或单层和多层石墨烯之间的界面从而调制石墨烯的带隙。边缘构造可以在单层石墨烯表面引入边界,而多层石墨烯可以通过堆叠来形成不同的结构,从而调制其电子性质。 总的来说,石墨烯打开带隙的研究是一个具有挑战性和前景的领域。目前,化学修饰和物理手段是石墨烯打开带隙的两大分类,虽然仍存在很多技术上的挑战和制备难度,但是这一领域的研究为探索更广泛石墨烯应用和其他二维材料的开发提供了新的思路和手段。在未来的研究中,有必要将化学和物理手段相结合,从而可以更好地控制石墨烯的电子性质,并实现石墨烯在更多领域中的应用。