原子层沉积技术制备N、Fe掺杂TiO2光催化薄膜技术的研究.docx
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原子层沉积技术制备N、Fe掺杂TiO2光催化薄膜技术的研究.docx
原子层沉积技术制备N、Fe掺杂TiO2光催化薄膜技术的研究摘要:本文以原子层沉积技术为基础,探讨了制备N、Fe掺杂TiO2光催化薄膜技术的研究。通过实验得出,掺杂Fe和N元素可以提高TiO2光催化材料的吸收能力以及光催化性能,进一步改善了TiO2材料的光催化效果。这种研究具有较高的应用价值,可以为污染物的净化提供一种高效的途径,同时还促进了光催化材料的发展。关键词:原子层沉积技术、N、Fe掺杂TiO2、光催化材料、光催化效果1.引言光催化技术是一种将可见光或紫外光转化为化学反应能的技术,具有较高的应用价值
N掺杂和N-Fe共掺杂TiO2薄膜的制备及光催化性能研究.docx
N掺杂和N-Fe共掺杂TiO2薄膜的制备及光催化性能研究摘要:本文主要研究了不同条件下制备的N掺杂和N-Fe共掺杂TiO2薄膜的光催化性能。结果表明,N掺杂和N-Fe共掺杂可以显著提高TiO2薄膜的光催化活性。其中,N掺杂可增强薄膜的可见光响应性能,促进电子的跃迁与传递,而N-Fe共掺杂则进一步增强了薄膜的可见光吸收能力和活性。关键词:N掺杂、N-Fe共掺杂、TiO2薄膜、光催化性能引言:TiO2作为一种常用的催化剂材料,已经被广泛应用于环境净化、废水处理、空气净化等领域。然而,纯TiO2的光催化活性较低
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原子层沉积制备铱薄膜的特性研究铱(Ir)是周期表中的一种金属元素,具有高的密度和强的化学稳定性。由于它在高温和氧化条件下的稳定性,铱薄膜被广泛应用于热电偶和高温热反应器。原子层沉积(ALD)是铸造超薄膜的一个先进技术,通过逐层沉积控制每一层生成,可以获得高质量和可重复的薄膜。ALD使用预先选择的反应物,它们逐渐沉积在基底表面上,而且这些反应物具有漂亮的表面粒子分散性,这意味着成膜的均匀性非常高。铱薄膜的ALD方法可以使用化学气相沉积(CVD)来实现,其中Ir(acac)3是一种常用的Ir前体,它可以与H2
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微弧氧化法制备N掺杂TiO2薄膜及其光催化应用研究.docx
微弧氧化法制备N掺杂TiO2薄膜及其光催化应用研究微弧氧化法制备N掺杂TiO2薄膜及其光催化应用研究摘要:本研究利用微弧氧化法制备了N掺杂的TiO2薄膜,并对其进行了光催化性能研究。通过X射线衍射(XRD)、扫描电子显微镜(SEM)、透射电子显微镜(TEM)等技术对薄膜的结构和形貌进行了表征。同时,利用紫外-可见光吸收光谱(UV-Vis)分析了薄膜的光催化活性。结果表明,N掺杂能够显著提高TiO2薄膜的光催化活性,使其在可见光区域具有较高的吸收能力。此外,通过考察不同N掺杂量对光催化性能的影响,发现适量的