光刻机硅片对准软件系统设计与实现.docx
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衬底材料对光刻机对准精度的影响研究何峰作者简介:何峰(1984-),男,湖南邵阳人,硕士研究生,目前从事MEMS设计与制造,Email:hefeng84928@163.com,吴志明,王军,袁凯,蒋亚东(电子科技大学电子薄膜与集成器件国家重点实验室,四川成都,610054)摘要:随着光刻机技术的发展,特征线宽尺寸减少到纳米级,对光刻机对准系统提出了更高的对准精度的性能指标。对准系统是光刻机最精密复杂的部分,不同的工艺条件,尤其是不同的衬底材料对对准系统的精度都会产生显著影响。阐述了Nikon步进投影光刻