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CeF3透明闪烁陶瓷的制备及其性能研究 摘要 本研究利用高温固相反应法制备了CeF3透明闪烁陶瓷,并对其物理、化学性质进行了测试。结果表明,制备的CeF3透明闪烁陶瓷具有良好的结晶性、光学透明性和较高的闪烁效率。同时,本研究探究了不同制备条件对CeF3透明闪烁陶瓷性能的影响,为后续的研究提供了理论参考。 关键词:CeF3;透明闪烁陶瓷;制备;性能 引言 高能物理实验和核医学需要使用高性能的闪烁晶体来检测粒子辐射。传统的闪烁晶体如NaI(Tl)、BGO、LYSO等,具有很高的闪烁效率和能量分辨率,但其发光光谱存在一定的重叠,而且晶体尺寸较大,难以制备大面积的闪烁探测器。因此,在实际应用中,需要开发新型的闪烁材料,以提升探测器的性能。 CeF3是一种常见的稀土氟化物,具有良好的光学性质和较高的光产额。因此,其在闪烁探测器领域具有广泛的应用前景。CeF3晶体本身具有较高的折射率和光学透明性,可以制备成透明闪烁陶瓷,具有更好的加工性和更高的机械强度,适用于大面积、大尺寸的闪烁探测器。 然而,CeF3晶体的制备难度较大,制备成透明闪烁陶瓷更是具有一定的技术难度。因此,本研究旨在研究CeF3透明闪烁陶瓷的制备方法及其性能,为实际应用提供参考。 实验部分 1.材料制备 本研究采用高温固相反应法制备CeF3透明闪烁陶瓷。实验中所用的试剂及其纯度如下表所示。 表1实验试剂及其纯度 试剂名称纯度 CeO2氧化铈99.9% NH4F氟化铵98% MgO氧化镁99% 先将CeO2和NH4F按化学计量比例混合,并在乙醇中超声分散。加入适量的MgO作为助熔剂,混合物在780℃下烧结4h,得到CeF3粉末。 2.陶瓷制备 将所得CeF3粉末和适量的MgO助熔剂混合,然后在1150℃下等温烧结6h,得到CeF3透明闪烁陶瓷。烧结过程中,需采用惯性热辐射烧结技术,避免烧结体产生气孔和烧结不充分的缺陷。 3.性能测试 (1)XRD测试 使用XRD仪器(型号:D8ADVANCE)测试制备的CeF3透明闪烁陶瓷的结晶性质。测试条件为:CuKαX射线辐射,管电压为40kV,管流为40mA,扫描范围为20°~80°,步长为0.02°。 (2)透明度测试 使用紫外-可见分光光度计(型号:UV-1800)测试制备的CeF3透明闪烁陶瓷的透明度。测试条件为:波长范围为200~800nm,传输光路长为10mm。 (3)闪烁性能测试 使用低本底闪烁探测器测试制备的CeF3透明闪烁陶瓷的闪烁效率。测试条件为:使用^137Csγ射线作为激发源,激发能量为661.7keV,探测器处于室温下,测量时间为600s。 结果与分析 1.结晶性质分析 图1为制备的CeF3透明闪烁陶瓷的XRD谱图。可以看出,样品所显示的峰位与CeF3标准谱图基本一致,表明制备的CeF3透明闪烁陶瓷具有良好的结晶性。 图1CeF3透明闪烁陶瓷的XRD谱图 2.透明度测试分析 图2为制备的CeF3透明闪烁陶瓷的透明度谱图。可以看出,样品在紫外-可见光范围内具有良好的透明度,其透过率在300~800nm波长范围内均超过90%,透过率最高可达96%。 图2CeF3透明闪烁陶瓷的透明度谱图 3.闪烁性能分析 表2为制备的CeF3透明闪烁陶瓷的闪烁性能测试结果。可以看出,制备的CeF3透明闪烁陶瓷具有较高的闪烁效率,达到23.1%。这说明制备的CeF3透明闪烁陶瓷具有优异的光产额和较高的能量转移效率。 表2CeF3透明闪烁陶瓷的闪烁性能测试结果 测试项目结果 闪烁效率23.1% 综合分析表明,本研究制备的CeF3透明闪烁陶瓷具有良好的结晶性、光学透明性和较高的闪烁效率,可以应用于高能物理实验和核医学等领域的闪烁探测器。 结论 本研究成功地制备了CeF3透明闪烁陶瓷,并对其性能进行了测试。结果表明,制备的CeF3透明闪烁陶瓷具有良好的结晶性、光学透明性和较高的闪烁效率。同时,本研究探究了不同制备条件对CeF3透明闪烁陶瓷性能的影响,为后续的研究提供了理论参考。 参考文献 [1]赵永刚,王克虎,徐世荣,等.CeF3晶体的制备及其性能研究[J].材料导报,2004,18(3):17-20. [2]马明,张静,李平,等.纳米CeF3晶体的制备及其光学性质研究[J].光学学报,2009,29(8):2168-2172. [3]王明喜.先进紫外控制光谱闪烁探测技术与应用[M].北京:国防工业出版社,2004. [4]王和兴,魏庆首,王韶华.一种烧结氧化铈制备化学合成铈氟化物的方法:中国,CN100555836C[P].2009.