荧光成像技术探测熔石英元件亚表面缺陷.docx
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荧光成像技术探测熔石英元件亚表面缺陷.docx
荧光成像技术探测熔石英元件亚表面缺陷荧光成像技术是一种常用于实时观察材料表面缺陷的无损检测方法。作为一种非接触式检测技术,荧光成像技术在工业生产中广泛应用于石英元件等材料的表面质量检测。本文将介绍荧光成像技术的原理、应用以及在熔石英元件亚表面缺陷检测方面的研究进展。一、荧光成像技术原理荧光成像技术是基于荧光现象的一种检测方法。当材料中的缺陷处于激发状态时,能量便被吸收并储存起来。当激发源停止作用后,材料会发出能量释放光子,即荧光。荧光成像技术利用专门的荧光仪器设备,通过对荧光的检测和分析,可以确定材料中的
弱荧光成像条件下的熔石英亚表面缺陷高分辨成像方法.pdf
本发明公开了一种弱荧光成像条件下的熔石英亚表面缺陷高分辨成像方法,包括构建一缺陷检测装置;连续激光束60°‑70°入射到样品表面,在离轴照明模式下,使样品的表面及亚表面缺陷在EMCCD中清晰成像。本发明针对样品亚表面的缺陷具有极低的荧光量子产额及传统成像CCD无法响应弱荧光的问题,确定其荧光缺陷的激发光谱以及发射光谱特性,在此基础上选择合适的激发波长光源及探测器,采用离轴照明模式,克服了同轴照明方式下杂散光严重干扰目标弱荧光信号,无法高分辨成像的问题;结合所测样品的透反率、菲涅尔反射、激光能量等因素,确定
熔石英亚表面缺陷的蚀刻和热处理研究.docx
熔石英亚表面缺陷的蚀刻和热处理研究熔石英是一种重要的无机材料,具有高热稳定性、高透光性、高机械强度和优良的电性能等特性。熔石英广泛应用于光学、电子、半导体、化工等领域。然而,熔石英表面缺陷严重影响其使用效果。因此,熔石英表面缺陷的蚀刻和热处理研究具有重要的实际意义。一、熔石英表面缺陷的分类熔石英表面缺陷分为光学缺陷和物理缺陷两种类型。光学缺陷主要包括包裹体、气泡、点缺陷和线缺陷等;而物理缺陷则包括裂纹和划痕等。在实际应用过程中,这些缺陷会导致熔石英的透光性降低、机械强度下降、电性能不稳定等问题。因此,对熔
熔石英亚表面微缺陷原位表征及损伤阈值研究.docx
熔石英亚表面微缺陷原位表征及损伤阈值研究熔石英是一种压电材料,广泛应用于光学、电子、通讯以及光纤等领域。在使用过程中,经常会受到各种力学和热学的外界因素的影响,导致表面微缺陷的形成,进而对熔石英材料的性能产生不良影响。因此,对熔石英亚表面微缺陷的原位表征及损伤阈值的研究具有重要意义。本文将阐述这方面的研究进展。一、熔石英亚表面微缺陷成因熔石英亚表面微缺陷是由于各种因素的作用导致表面的微小缺陷。其中,最主要的因素是材料制备和处理过程中的不良因素,如晶界、氧化物夹杂物及其他杂质等。此外,环境因素也会加速表面微
熔石英光学元件表面缺陷的增材修复方法及装置.pdf
本发明公开了一种熔石英光学元件表面缺陷的增材修复方法及装置,所述方法首先全部清除熔石英光学元件表面缺陷及其周围受影响区域的材料,然后以二氧化碳激光为热源,采用化学气相沉积的方法在缺陷清除后留下的凹坑内高精度沉积新的熔石英材料来填充凹坑至熔石英元件表面平整并原位进行激光退火。本发明通过激光化学气相沉积和激光退火进行熔石英元件表面缺陷的增材修复,确保了缺陷修复后表面光滑平整,大大提高了熔石英光学元件的抗损伤能力。并且,该方法具有位置精度高、沉积量可控、速度快的特点,能够有选择性地修复表面的缺陷点而不对元件其他