

碳纤维基底真空沉积膜层的设计研究.docx
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碳纤维基底真空沉积膜层的设计研究.docx
碳纤维基底真空沉积膜层的设计研究碳纤维基底真空沉积膜层的设计研究摘要:近年来,碳纤维材料在许多领域中得到了广泛应用,而在一些特殊应用中,需要通过沉积一层薄膜来改善其性能。因此,本文针对碳纤维基底的真空沉积膜层设计进行了研究。通过分析碳纤维基底表面特性,选择合适的薄膜材料,确定薄膜厚度和沉积工艺参数,以实现膜层的均匀性和功能性。实验结果表明,合理设计的真空沉积膜层可以显著改善碳纤维基底的性能,为碳纤维材料在各个领域的进一步应用提供了有力支持。关键词:碳纤维,真空沉积,薄膜设计,性能改善1.引言碳纤维材料具有
膜层沉积装置及膜层沉积方法.pdf
本发明涉及半导体制造技术领域,尤其涉及一种膜层沉积装置及膜层沉积方法。所述膜层沉积装置包括:承载部,用于承载晶圆;喷头,设置于所述承载部上方,用于向所述位于所述承载部的表面的所述晶圆喷射反应气体,所述反应气体用于在所述晶圆表面形成膜层;遮蔽结构,用于遮蔽所述喷头的边缘区域,以降低所述晶圆的边缘区域的所述反应气体浓度。本发明一方面,提高了膜层厚度的均匀性;另一方面,使得在后续刻蚀过程中,边缘区域的膜层能够充分被刻蚀,避免了膜层残留,改善了刻蚀质量。
在基底上沉积层体系的涂布方法和具有层体系的基底.pdf
本发明涉及在基底(1)上沉积由硬质材料层形成的层体系(S)的涂布方法,其包括下列方法步骤:提供可抽空的工艺室(2),该工艺室具有含蒸发材料(M1)的阴极真空电弧蒸发源(Q1)和具有含放电材料(M2)的磁控放电源(Q2),其中所述磁控放电源(Q2)可在HIPIMS模式下操作。随后仅利用阴极真空电弧蒸发源(Q1)在阴极真空电弧蒸发工艺中在基底(1)的表面上沉积至少一个包含所述蒸发材料(M1)的接触层(S1)。根据本发明,在沉积该接触层(S1)后,通过阴极真空电弧蒸发源(Q1)和磁控放电源(Q2)的平行操作,以
碳纤维表面沉积碳化钨膜研究.docx
碳纤维表面沉积碳化钨膜研究碳纤维表面沉积碳化钨膜的研究摘要:随着碳纤维复合材料日益广泛的应用,对其表面性能的要求也越来越高。碳化钨膜作为一种具有高硬度、高熔点和优异耐腐蚀性能的材料,被广泛应用于各个领域。本研究以碳纤维表面沉积碳化钨膜为研究内容,通过不同方法制备碳纤维表面的碳化钨膜,并对其性能进行了分析。研究结果表明,碳纤维表面沉积碳化钨膜可以显著提高其硬度和耐磨性,同时还能增强其抗氧化和耐腐蚀性能,为碳纤维的应用提供了有力支撑。关键词:碳纤维、碳化钨膜、硬度、耐磨性、抗氧化性、耐腐蚀性1.引言碳纤维是一
用于涂覆基底的真空沉积设备和方法.pdf
本发明涉及用于在包括真空室的真空沉积设备内部在移动的基底上连续沉积由至少一种金属形成的涂层的方法;在基底的两侧上涂覆有至少一种金属的经涂覆的基底;以及真空沉积设备。