碳化硅基VDMOS器件SPICE模型研究.docx
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碳化硅基VDMOS器件SPICE模型研究.docx
碳化硅基VDMOS器件SPICE模型研究碳化硅基VDMOS器件(SPICE模型)研究摘要:碳化硅基(VDMOS)垂直双扩展型场效应晶体管器件具有高温、高功率及高频特性等优点,在现代功率半导体器件中得到广泛的应用。本论文针对碳化硅基VDMOS器件的SPICE模型进行了研究,以实现对碳化硅VDMOS器件电路特性的准确建模和性能分析。通过文献综述,对SPICE模型的发展历程进行了介绍,并重点讨论了碳化硅VDMOS器件SPICE模型的建立方法及其与实际器件之间的拟合程度。通过实验验证和模拟结果对比,验证了该SPI
碳化硅基VDMOS器件SPICE模型研究的开题报告.docx
碳化硅基VDMOS器件SPICE模型研究的开题报告一、选题背景现如今,半导体器件技术已经成为了现代电子工业的核心技术之一。其中,钝化栅氧化物场效应管(VDMOS)是一种非常重要的功率三极管,它具有硅功率三极管的高导电和阻挡能力,以及金属氧化物半导体场效应晶体管(MOSFET)的驱动方式优势,主要应用于汽车电子、电源、工业控制等领域。而碳化硅(SiC)材料的电学性能比硅(Si)更优异,其具有高速度、高温度、高电子迁移率等优点,因此SiCVDMOS晶体管成为了高温高功率功率应用重要组成部分。然而,为了更准确地
碳化硅基VDMOS器件SPICE模型研究的任务书.docx
碳化硅基VDMOS器件SPICE模型研究的任务书任务背景:碳化硅(SiC)材料具有高电子迁移率、高饱和漂移速度、高击穿场强等优异性能。因此,SiC材料被广泛应用于高功率、高温、高频等领域。VDMOS器件作为一种常见的功率器件,由于具有结构简单、控制方便等优点,在各种应用中得到广泛的应用。随着SiC材料的发展和应用,SiC基VDMOS器件成为近年来的研究热点之一。为了更好地了解SiC基VDMOS器件的性能和特点,需要进行SPICE模型研究。任务目的:本研究旨在探究SiC基VDMOS器件的电气特性,建立其SP
基于Spice的应变SiSiGe MOS器件模型研究.docx
基于Spice的应变SiSiGeMOS器件模型研究摘要:随着半导体器件的不断发展和普及,人们对器件模型的研究也愈发重要。本文基于Spice的应变SiSiGeMOS器件模型进行研究,通过分析SiSiGe材料的性质和MOS器件的基本原理,建立了一个全局优化的器件模型,并对该模型在不同应变条件下的电性能够进行详细的仿真和测试。结果表明,该模型能够较为准确地预测SiSiGeMOS器件的电性能,并且具有良好的适应性和稳定性。本论文的研究成果对于实现更加优化的SiSiGeMOS器件的设计和性能优化具有一定的指导意义。
一种碳化硅VDMOS器件.pdf
本发明属于功率半导体技术,涉及一种碳化硅VDMOS器件。该器件采用方形原胞结构,相较于传统的方形原胞,本结构的特点在于在四个最邻近原胞共同的JFET区十字交叉中心形成P型注入区。P型注入区可有效地吸收来自漏端的电力线,缓解器件阻断状态下JFET区十字交叉处的栅氧化层电场集中,从而提高器件耐压并改善器件的栅氧可靠性。