MEMS湿法腐蚀释放工艺研究.docx
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MEMS湿法腐蚀释放工艺研究MEMS湿法腐蚀释放工艺研究摘要:随着微电子技术的不断发展,微电子机械系统(MEMS)由于其微小尺寸,高度集成和低功耗等优点已经成为一种重要的技术。在MEMS器件的制备过程中,腐蚀释放(Etch-release)工艺起着至关重要的作用。本论文主要研究了MEMS湿法腐蚀释放工艺,包括工艺的原理、优点、影响因素等方面进行研究,并通过实验证明了湿法腐蚀释放工艺的有效性和可行性。关键词:MEMS;湿法腐蚀释放;工艺;优点;影响因素1.引言微电子机械系统是将微观机械系统与集成电路相结合的
MEMS湿法腐蚀工艺和过程.doc
H:\精品资料\建筑精品网原稿ok(删除公文)\建筑精品网5未上传百度第8章MEMS湿法腐蚀工艺和过程DavidW.Burns摘要:经过光刻胶或硬掩膜窗口进行的湿法化学腐蚀在MEMS器件制造的许多工艺过程中大量存在。本章针对400多种衬底和淀积薄膜的组合介绍了800多种湿法腐蚀配方,着重介绍了在大学和工业界超净间中常见的实验室用化学品。另外给出了600多个有关选择或开发制造MEMS器件的新配方的文献。也给出了近40个内部整合的材料和腐蚀特性的图表,方便读者迅速寻找和比较这些配方。有关目标材料和腐蚀特性的缩
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第8章MEMS湿法腐蚀工艺和过程DavidW.Burns摘要:通过光刻胶或硬掩膜窗口进行的湿法化学腐蚀在MEMS器件制造的许多工艺过程中大量存在。本章针对400多种衬底和淀积薄膜的组合介绍了800多种湿法腐蚀配方,着重介绍了在大学和工业界超净间中常见的实验室用化学品。另外给出了600多个有关选择或开发制造MEMS器件的新配方的文献。也给出了近40个内部整合的材料和腐蚀特性的图表,方便读者迅速寻找和比较这些配方。有关目标材料和腐蚀特性的缩略语为方便比较都进行了统一。腐蚀速率和对其他材料的腐蚀选择性也给出了。
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第8章MEMS湿法腐蚀工艺和过程DavidW.Burns摘要:通过光刻胶或硬掩膜窗口进行的湿法化学腐蚀在MEMS器件制造的许多工艺过程中大量存在。本章针对400多种衬底和淀积薄膜的组合介绍了800多种湿法腐蚀配方,着重介绍了在大学和工业界超净间中常见的实验室用化学品。另外给出了600多个有关选择或开发制造MEMS器件的新配方的文献。也给出了近40个内部整合的材料和腐蚀特性的图表,方便读者迅速寻找和比较这些配方。有关目标材料和腐蚀特性的缩略语为方便比较都进行了统一。腐蚀速率和对其他材料的腐蚀选择性也给出了。
4MEMS工艺湿法腐蚀.pdf
MEMS工艺--腐蚀董海峰改编自美国西北大学ChangLiu教授《微机电系统》课程相关课件2012.10考核方式考核方式Þ提出问题或发表评论(≤10个/人):每个满分5分Þ回答问题(≤10个/人):每个满分5分Þ问题、评论和回