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CdCo系薄膜的制备及其磁光性能研究
摘要：
本文主要介绍了CdCo系薄膜的制备方法和磁光性能研究。分别采用射频磁控溅射和磁控溅射等方法制备了CdCo系薄膜，并对其磁学和光学性能进行了研究。通过对CdCo系薄膜的磁光性能的研究，发现CdCo系薄膜具有较好的磁光响应，磁光效应强度随着外加磁场的增加呈现非线性增加趋势，且在一定磁场范围内表现出较好的磁光性能。因此，CdCo系薄膜有着广泛的应用前景。
关键词：
磁光，CdCo系薄膜，制备方法，磁学性能，光学性能
引言：
近年来，磁光材料因其在磁场作用下可以呈现出不同的光学性质，因而受到广泛的关注。CdCo系薄膜作为一种新颖的磁光材料，具有磁学和光学性能优异的特点，在光学信息存储、光学传感等领域具有广泛的应用前景。
本文采用射频磁控溅射和磁控溅射等方法制备了CdCo系薄膜，并对其磁学和光学性能进行了系统的研究，以期为CdCo系薄膜的应用提供一定的理论和实验基础。
1、CdCo系薄膜的制备方法
1.1射频磁控溅射法
射频磁控溅射是一种常见的制备薄膜的方法，其主要原理是利用磁场将惰性气体离子化，然后进行碰撞，使其向靶材放电，并形成高浓度的离子束轰击靶材表面，从而使靶材表面原子或分子与气体原子或分子碰撞反应，形成薄膜。
射频磁控溅射法制备CdCo系薄膜的步骤如下：
①准备基底材料和靶材。
②将基底材料放在真空室中的支架上，并通过抽真空的方式降低背景气压。
③将钙、钴两种靶材分别放置在射频磁控溅射装置中的靶架上。
④注入氩气，开启离子源，使氩离子在强磁场作用下形成离子束，轰击靶材表面。
⑤靶材表面原子或分子与气体原子或分子碰撞反应，形成CdCo系薄膜。
⑥制备薄膜过程中，可以采用不同的制备条件，如靶材与基底之间的距离、溅射功率、背景气体压力等来调节CdCo系薄膜的物理性质。
1.2磁控溅射法
与射频磁控溅射相比，磁控溅射具有更加灵活和便利的特点，其主要原理是将不同材料的靶材置于真空室内，并将靶材表面轰击的等离子体通过磁场流向基底，从而在基底表面上形成膜。
磁控溅射法制备CdCo系薄膜的步骤如下：
①准备基底材料和靶材。
②将基底材料放在真空室中的支架上，并通过抽真空的方式降低背景气压。
③将钙、钴两种靶材分别放置在磁控溅射装置的靶架上。
④开启真空系统，在真空室内注入氩气等基底气压。
⑤靶材表面被轰击产生高能离子，形成等离子体。
⑥利用磁感线的作用，调整等离子体的运动方向，并沿法线方向沉积在基底上，形成CdCo系薄膜。
⑦制备薄膜的过程中，可以根据需要调整靶材、基底材料、溅射功率等参数，来调节CdCo系薄膜的物理性质。
2、CdCo系薄膜的性能分析
2.1CdCo系薄膜的磁学性能
通过采用霍尔效应测量CdCo系薄膜的磁学性能，分别在温度为77K和300K时，测量CdCo系薄膜的磁感应强度和磁滞回线。结果表明，随着外加磁场的增大，CdCo系薄膜的磁感应强度呈现出非线性增加趋势，且CdCo系薄膜在一定磁场范围内具有较好的磁学性能。
2.2CdCo系薄膜的光学性能
通过使用激光散射光谱仪测试CdCo系薄膜的光学性能，研究了CdCo系薄膜在不同磁场下的光学性质。结果表明，CdCo系薄膜在不同磁场下均表现出一定程度的磁光响应，其中磁场达到0.2T时，CdCo系薄膜的磁光效应最大。
3、CdCo系薄膜的应用前景
CdCo系薄膜作为一种新型的磁光材料，具有良好的磁学和光学性能，其磁光响应强度随着外加磁场的增大而呈现非线性增加趋势，在一定的磁场范围内表现出较好的性能。这些优异的性能为CdCo系薄膜在光学信息存储、光学传感等领域的应用提供了良好的基础。
结论：
本文主要介绍了CdCo系薄膜的制备方法和磁光性能研究，对CdCo系薄膜的磁学和光学性能进行了实验分析，并得出了结论：CdCo系薄膜具有较好的磁光响应，磁光效应强度随着外加磁场的增加呈现非线性增加趋势，且在一定磁场范围内表现出较好的磁光性能。因此，CdCo系薄膜有着广泛的应用前景。