精细雾化抛光系统设计及雾化参数的研究.docx
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精细雾化抛光系统设计及雾化参数的研究.docx
精细雾化抛光系统设计及雾化参数的研究精细雾化抛光系统设计及雾化参数的研究摘要:精细雾化抛光系统是一种常用于表面处理和抛光工艺的技术。本文旨在研究该系统的设计及雾化参数,并通过实验和理论分析来评估其性能。首先,我们对精细雾化抛光系统的工作原理进行了介绍,并详细阐述了其设计要点。接着,我们介绍了雾化参数的影响因素,并提出了一种优化参数的方法。最后,我们进行了实验验证,并对实验数据进行了分析和讨论。实验结果表明,优化后的参数能够显著提高精细雾化抛光系统的性能。本研究对于优化精细雾化抛光系统的设计和参数具有重要的
精细雾化抛光系统设计及雾化参数的研究的综述报告.docx
精细雾化抛光系统设计及雾化参数的研究的综述报告精细雾化抛光系统是目前研究优化抛光效果的一个重要方向,其基本思路是通过高速旋转打磨工具,将研磨颗粒雾化以达到更细致、更均匀、更高效的抛光效果。本文将从系统设计和雾化参数两个方面进行综述。一、系统设计1.打磨工具精细雾化抛光系统中常用的打磨工具有磨料片、磨料头、磨料丝等。这些工具的共同特点是高速旋转,产生摩擦和磨损作用,使研磨颗粒雾化后与被打磨件表面接触,产生研磨效果。需要注意的是,打磨工具的直径、转速、形状等参数会直接影响到研磨颗粒的雾化效果,从而影响整个抛光
TFT-LCD玻璃基板精细雾化抛光的工艺参数优化.docx
TFT-LCD玻璃基板精细雾化抛光的工艺参数优化随着人们对电子产品的需求不断提升,TFT-LCD显示屏作为一种高品质、高显示效果的技术,广泛应用于电子设备中。TFT-LCD显示屏所采用的玻璃基板是制造该产品的重要组成部分之一,其表面的精细抛光对显示效果、可靠性等方面的影响非常重要。本文主要研究TFT-LCD玻璃基板精细雾化抛光的工艺参数优化。一、TFT-LCD玻璃基板的性能要求TFT-LCD所采用的玻璃基板需要满足一定的性能要求,其主要包括透光性、平面度、表面光洁度、表面RMS蜂窝度以及玻璃基板内部晶须等
精细雾化Cu-CMP抛光液抛光效果的试验研究.docx
精细雾化Cu-CMP抛光液抛光效果的试验研究一、绪论在半导体行业中,铜化学机械抛光(Cu-CMP)是一项非常重要的制程技术,这一技术不仅应用广泛,而且对芯片的性能有着重要的影响。在这项技术中,抛光液是关键的材料之一。为了使Cu-CMP抛光液能够更好地发挥抛光的效果,人们不断在研究并改进Cu-CMP抛光液中的各项成分以提高其抛光效果。本文以精细雾化的Cu-CMP抛光液为研究对象,通过实验对其抛光效果进行了探究,以期对该技术的进一步发展提供一些参考意见。二、精细雾化Cu-CMP抛光液原理精细雾化的Cu-CMP
雾化系统的雾化方法及雾化系统.pdf
本发明公开一种雾化系统的雾化方法及雾化系统,采用柱塞计量泵实现液体定量精确的输送,利用超声雾化装置可以将待雾化的液体结构打散形成结构均匀的液滴,且因为先启动超声雾化装置开启工作,接着通过供液装置的柱塞计量泵定量的向超声雾化装置输送待雾化的液体,通过超声雾化装置将输送的待雾化液体结构打散以形成结构均匀的液滴并喷出,当雾化结束后,先关闭柱塞计量泵以停止向超声雾化装置输送待雾化液体,利用超声雾化装置将柱塞计量泵输送的待雾化液体全部雾化,最后关闭超声雾化装置,从而避免待雾化液体残留或者产生滴液,提高了雾化系统的雾