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ICP刻蚀机腔室设计优化研究的任务书
任务书：
题目：ICP刻蚀机腔室设计优化研究
背景
ICP刻蚀技术是一种新型的微纳加工技术，可用于制造微电子器件、MEMS器件、生物芯片等微纳米尺度的器件。在ICP刻蚀过程中，气体放电反应形成的等离子体会与加工件表面反应，进而实现对加工件表面的刻蚀。而刻蚀过程中，腔室的设计和性能会直接影响到刻蚀的效率和加工件的质量。因此，对ICP刻蚀机腔室的设计优化进行研究，有助于提高加工效率和加工质量。
任务
1.调研目前ICP刻蚀机腔室的设计和性能，并总结腔室设计的主要问题和需要改进的方向。
2.设计一种更优化的ICP刻蚀机腔室，并结合现有的技术和理论，提出其设计方案和实现方法，包括腔室形状、内部反射镜的设计、气体流动和等离子体分布的模拟等。
3.制作和测试设计好的ICP刻蚀机腔室，评估其加工效率和加工质量与目前市场上ICP刻蚀机的性能进行比较，并分析改进措施的可行性、优越性和适用性。
4.撰写一份完整的试验报告，其中包括研究目的、研究过程、实验结果和结论等内容。
任务要求
1.着重分析ICP刻蚀机腔室设计的重要性，说明腔室设计对加工效率和加工质量的影响。
2.对目前市场上ICP刻蚀机腔室的设计和性能进行详细调研，包括腔室形状、内部反射镜设计、气体流动和等离子体分布等方面，总结存在的问题和不足。
3.结合现有的技术和理论，提出一种更好的ICP刻蚀机腔室的设计方案和实现方法，包括腔室形状、内部反射镜设计、气体流动和等离子体分布等方面。
4.制作并测试改进后的ICP刻蚀机腔室，评估其加工效率和加工质量并与目前市场上ICP刻蚀机的性能进行比较。
5.撰写一份完整的试验报告，阐述研究目的、研究过程、实验结果和结论等内容。
6.文献资料丰富、数据准确，语言表述清晰准确、组织流畅合理，实验分析方法科学合理、结论合理、具有新颖性，综合水平较高。
时间安排
1.起止时间：今后三个月
2.总体安排：
第1-2周：调研现有的ICP刻蚀机腔室的设计和性能
第3-4周：制定ICP刻蚀机腔室设计的方案和实现方法
第5-8周：制作ICP刻蚀机腔室并进行测试
第9-10周：分析结果，撰写试验报告
第11-12周：修改试验报告，完成任务
参考文献
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[4]E.Schneider,J.W.Coburn.(1997).Howtodesignanetcherforplasmaprocessing.SolidStateTechnology.
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