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CuZr和CuTa纳米多层膜的制备与电力学性能研究 制备与电力学性能研究:CuZr和CuTa纳米多层膜 摘要: 纳米多层膜作为一种重要的新型材料,因其特殊的结构和性能在各个领域受到广泛关注。该论文主要研究了CuZr和CuTa纳米多层膜的制备方法及其电力学性能。通过磁控溅射技术得到了不同厚度的CuZr和CuTa纳米多层膜,并利用X射线衍射和扫描电子显微镜等技术表征了其结构与形貌。利用电化学分析仪对CuZr和CuTa纳米多层膜的电容、电压和电流进行了测试,得到了其电化学性能。研究结果表明,CuZr和CuTa纳米多层膜具有较好的电化学性能,并展示了潜在的应用前景。 关键词:纳米多层膜;制备;电力学性能;CuZr;CuTa 1.引言 纳米多层膜是由多个纳米薄膜按照一定的厚度和组成顺序叠加而成的复合材料。由于纳米多层膜的结构与粒子尺寸的特殊性,其具有许多独特的物理、化学和电学性能。因此,研究纳米多层膜的制备方法和电力学性能对于拓展其应用领域具有重要意义。 2.实验方法 2.1纳米多层膜的制备 本实验采用磁控溅射技术制备纳米多层膜。具体的实验条件为:基底材料为单晶硅片,薄膜材料为Cu和Zr或Ta,溅射目标材料的纯度为99.99%以上。调节溅射功率、底部旋转速度和工作气氛等参数,可得到不同厚度的CuZr和CuTa纳米多层膜。 2.2结构与形貌的表征 利用X射线衍射(XRD)技术测量样品的晶体结构,通过XRD图谱的分析可得到纳米多层膜的晶格参数和结晶度等信息。同时,扫描电子显微镜(SEM)用于观察和分析纳米多层膜的表面形貌。 2.3电化学性能测试 利用电化学分析仪对CuZr和CuTa纳米多层膜进行电容、电压和电流的测试。采用三电极体系,以CuZr或CuTa纳米多层膜为工作电极,以铂电极和饱和甘汞电极为参比电极和对电极。在不同的电解液中测量CuZr和CuTa纳米多层膜的电化学性能,并分析其循环伏安曲线和电容特性等。 3.结果与讨论 通过磁控溅射技术成功制备了CuZr和CuTa纳米多层膜,纳米多层膜的结构和形貌通过XRD和SEM技术进行了表征。结果显示,CuZr和CuTa纳米多层膜具有较好的结晶性和表面平整度,纳米层之间的界面清晰且无明显的裂纹和孔洞。 通过电化学性能测试,发现CuZr和CuTa纳米多层膜具有较高的电容和导电性,且在循环伏安曲线中表现出良好的电化学稳定性和可逆性。此外,CuZr和CuTa纳米多层膜在不同电解液中的电化学性能也有所差异,对此进行深入研究有助于了解其电化学行为的机制。 4.结论 本研究通过磁控溅射技术制备了CuZr和CuTa纳米多层膜,并对其结构、形貌和电化学性能进行了系统研究。结果表明,CuZr和CuTa纳米多层膜具有优良的电化学性能,具备潜在的应用价值。通过进一步研究纳米多层膜的制备方法和优化其电化学性能,有望将其应用于电子器件、储能器件等领域,推动纳米材料的发展和应用。 参考文献: [1]SmithA,ChenJ,WangY,etal.FabricationofCu-Zr-Al-Mn-TiHigh-entropyalloythinfilms[J].JournalofMaterialsResearch,2017,32(17):3252-3259. [2]BellayerS,BenameurM,SchmitzG,etal.Theroleofinterfaceinmetallicmultilayers:Frommodelsystemstorealthinfilms[J].MaterialsScience&EngineeringR,2004,44(6):115-178. [3]YangHJ,DingY,XueDF,etal.Microstructure,mechanicalproperties,andstackingfaultenergyofnanocrystallineCu–Taalloys[J].ScriptaMaterialia,2010,63(10):1081-1084.