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氧化物阴极等离子体源实验研究的中期报告
本次研究旨在探究氧化物阴极等离子体源在物理性质、实验参数和实验结果等方面的表现和影响因素，据此探究其在材料研究和工程应用中的潜力和限制。以下为中期报告。
一、实验平台
本实验采用AlfaAesar专业实验室设备，包括：OxfordInstrumentsKJLCPVD-75金属薄膜制备系统、MKSInstrumentsInc.处理气体控制器、KurtJ.LeskerCo.压力测量计、OmegaEngineeringInc.热电偶和PICeramicGmbH高压供电器。
二、实验方案
本实验对氧化物阴极等离子体源的电子发射特性、离子轰击特性、组分及结构等进行了测试和分析。
（1）电子发射特性
在真空下采用Stefan-Boltzmann辐射计检测氧化物阴极等离子体源的电子发射强度、电子温度和电子流密度等参数，调节电压、电流和气体流量等实验参数，探究其对电子发射性能的影响。
（2）离子轰击特性
在真空下采用对准测试方法，测量氧化物阴极等离子体源表面离子轰击强度和发射电流，分析其对薄膜均匀性和沉积速率的影响。
（3）组分及结构
采用X射线衍射仪分析氧化物阴极等离子体源的样品结构和晶格参数，探究离子轰击和沉积过程对样品物理结构的影响。
三、预期结果
本研究预期能够探究氧化物阴极等离子体源的物理性质和沉积效果。通过电子发射强度、离子轰击强度和材料结构等方面的测试，对氧化物阴极等离子体源的应用潜力和局限性进行研究和总结。
四、结论
氧化物阴极等离子体源的物理性质和沉积效果与实验参数密切相关，其性能特点和应用潜力需在不同领域和项目中综合考虑。本次研究仍需进一步测试和分析，以得到更准确和全面的结论并为该技术的进一步研究和应用提供参考。