单层二硫化钼的制备及光学性质研究的任务书.docx
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单层二硫化钼的制备及光学性质研究摘要:单层二硫化钼是一种新型的二维材料,在光电学等领域具有广泛应用前景。本文通过热法和化学气相沉积法(CVD)两种方法制备了单层二硫化钼,并通过X射线衍射、扫描电子显微镜、透射电子显微镜等手段对制备的材料进行表征。通过紫外可见光谱和荧光光谱等光谱性质研究,探究了单层二硫化钼作为光电器件材料的应用潜力。关键词:单层二硫化钼,制备方法,光学性质,应用潜力引言:在二维材料中,单层二硫化钼具有很好的物理、化学、光学和机械性能,是一种极有应用前景的新型材料。它的独特性质让它在各种领域
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单层二硫化钼接枝聚硅烷复合材料制备及表征研究的任务书任务书题目:单层二硫化钼接枝聚硅烷复合材料制备及表征研究一、研究背景与意义随着纳米材料的发展和应用,单层二维纳米材料作为新兴材料,由于其特殊的结构和性能,引起了广泛的关注。单层二硫化钼(MoS2)是一种典型的单层二维材料,具有优良的电子、光学、力学等性质,在光伏、光电、半导体及传感等领域具有广泛的应用前景。同时,聚硅烷复合材料由于其独特的结构和性能,在航空航天、机械制造、建筑材料等领域有着广泛的应用。因此,将二硫化钼与聚硅烷复合制备出具有优异性能的复合材