微波ECR等离子体增强法低温制备多晶硅薄膜研究的任务书.docx
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,目录PartOnePartTwo硅基太阳能电池的发展现状多晶硅薄膜在太阳能电池中的应用低温制备多晶硅薄膜的必要性研究目的与意义PartThree微波ECR等离子体增强法的原理与技术优势实验材料与设备实验过程与方法实验结果与分析方法PartFour实验结果展示结果分析与其他制备方法的比较实验结果的意义与影响PartFive研究结论研究成果的应用前景研究的局限性与展望PartSixTHANKS
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微波ECR等离子体增强法低温制备多晶硅薄膜研究AbstractInrecentyears,thedemandforlow-temperaturepreparationofpolycrystallinesiliconfilmshasincreasedduetotherapiddevelopmentofflexibleelectronicsandsolarcells.ThemicrowaveECRplasma-enhancedmethodhasbeenwidelyusedduetoitsadvantagesi
微波ECR等离子体增强法低温制备多晶硅薄膜研究的任务书.docx
微波ECR等离子体增强法低温制备多晶硅薄膜研究的任务书一、研究背景多晶硅薄膜是太阳能电池的重要材料之一。从传统的VacuumDeposition、PECVD、RTP到最近的HotWire、ALD、PEALD等等,不同的制备方法都在不同程度上解决了多晶硅薄膜生长中的不同问题,例如:大气压下的薄膜生长、膜质量和速率控制、均匀性、费用、产量等。其中ECR等离子体增强法是一种被广泛认可的方法。微波ECR等离子体可以使得多晶硅的生长温度最低达到500摄氏度,这一特性使得硅基太阳能电池的制造成为可能。但是,由于硅原子
微波ECR等离子体技术及制备GaN薄膜研究的中期报告.docx
微波ECR等离子体技术及制备GaN薄膜研究的中期报告本项目旨在研究微波ECR等离子体技术制备GaN薄膜的方法和性质,并在此基础上探讨其在半导体器件中的应用。在研究的前期工作中,我们已经成功地设计和制备了ECR等离子体反应室,搭建了完整的制备GaN薄膜的实验平台,并初步探讨了制备条件对GaN薄膜性质的影响。本中期报告主要介绍了以下工作内容:一、反应室设计和制备反应室是制备GaN薄膜的核心设备,其结构的合理设计和制备对制备GaN薄膜具有很大的影响。我们设计了一种具有半球形外形的反应室,以提高反应室内辐射强度和
APCVD法多晶硅薄膜的制备及其性能研究的任务书.docx
APCVD法多晶硅薄膜的制备及其性能研究的任务书任务书:APCVD法多晶硅薄膜的制备及其性能研究1.研究背景多晶硅薄膜具有许多优异的性能,如高导电性、光学透明性、热稳定性等,在太阳能电池、液晶显示器、光电传感器等领域有广泛的应用。而在制备多晶硅薄膜的方法中,APCVD(AtmosphericPressureChemicalVaporDeposition)法因为操作简便、成本低廉、制备效率高等优势得到了广泛的应用。2.研究目的本研究旨在通过APCVD法制备多晶硅薄膜,并对其性能进行研究,以探讨APCVD法制