氮化铝压电薄膜的反应磁控溅射制备与性能表征.pptx
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汇报人:目录PARTONEPARTTWO反应磁控溅射原理氮化铝压电薄膜的制备过程制备过程中的关键参数PARTTHREE结构表征物理性能表征机械性能表征电学性能表征PARTFOUR在传感器领域的应用在能源领域的应用在电子器件领域的应用在其他领域的应用PARTFIVE本论文的主要研究成果氮化铝压电薄膜的未来发展方向THANKYOU
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氮化铝压电薄膜的反应磁控溅射制备与性能表征摘要:本文采用磁控溅射技术制备了一系列氮化铝压电薄膜,并对其物理性质和电学特性进行了表征。结果表明,氮化铝压电薄膜具有优良的压电效应和介电性能,且具有较好的热稳定性和生物相容性,因此在微电子器件、生物医学领域等方面具有广泛的应用前景。关键词:氮化铝、压电薄膜、反应磁控溅射、物理性质、电学特性一、引言随着微纳电子技术的发展,高性能的压电材料越来越受到人们的关注。氮化铝作为一种新型的压电材料,在微电子器件、生物医学领域等方面具有广泛的应用前景。然而,传统的制备方法对于
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氮化铝压电薄膜的反应磁控溅射制备与性能表征的中期报告一、研究背景及意义氮化铝(AlN)因其高熔点、高硬度、高电绝缘性、高热导率等优异物理化学性能,被广泛应用于石英晶体生长载板、电子元器件隔热、表面声波器件(SAW)、压电陶瓷等领域。其中,压电陶瓷用途最为广泛,如压电陶瓷电缸、超声波换能器、压电陶瓷压力传感器等。薄膜材料是现代电子技术发展的基础之一。压电薄膜因其良好的压电和声电性能,被广泛应用于MEMS压电器件中。而利用溅射技术在衬底上制备压电薄膜,是制备高性能MEMS器件的重要技术之一。本研究通过反应磁控
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磁控溅射法制备CdS薄膜及性能表征PAGE\*MERGEFORMATVIIPAGE\*MERGEFORMAT1密级公开学号101554毕业设计(论文)磁控溅射法制备CdS薄膜及性能表征院(系、部):材料科学与工程学院姓名:于宇新年级:2010专业:材料科学与工程指导教师:曾冬梅教师职称:讲师2014年月日·北京北京石油化工学院毕业设计(论文)任务书学院(系、部)材料科学与工程学院专业材料科学与工程班级材101学生姓名于宇新指导教师/职称曾冬梅/讲师1.毕业设计(论文)题目磁控溅射法制备CdS薄
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