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外加偏置电场对薄膜的激光损伤影响研究的中期报告
中期报告：
研究背景：
激光损伤是指材料在激光作用下出现的可见或不可见的永久性损伤，会限制激光器的使用寿命和功率输出。近年来，人们对激光损伤进行了广泛的研究，但是对于外加偏置电场对激光损伤的影响研究较少。由于在现实应用中，往往会有外加偏置电场的存在，因此对于偏置电场对激光损伤的影响进行研究是非常有必要的。
研究目的和内容：
本次研究的目的是通过实验和理论计算，研究外加偏置电场对薄膜的激光损伤的影响规律，并探讨其机理。
本次研究的内容包括：
1.构建实验方案：设计不同偏置电场下，激光对薄膜的损伤实验方案。
2.实验：进行实验，记录不同偏置电场条件下的激光损伤结果。
3.理论计算：在已有实验数据基础上，建立模型进行理论计算，解析偏置电场对激光损伤的影响机理。
预期结果：
通过本次研究，预计可以得到外加偏置电场对薄膜的激光损伤的影响规律，并且初步探明其机理。这有助于人们更好地理解激光损伤的形成机理和规律，并且为实际应用中的激光器设计和选择提供了参考依据。
进展情况：
目前，已完成方案设计和实验条件的确定。实验中使用的薄膜为常见的二氧化硅薄膜，激光波长为532nm，频率为10Hz，损伤阈值为2.5J/cm2。已经完成了一系列不同偏置电场条件下的实验，得到了不同偏置电场条件下的激光损伤结果。
同时，已经开始对实验数据进行初步分析和处理，并开始建立模型进行理论计算。预计在后续的工作中，可以得到更加准确和详细的实验数据和理论计算结果。