氧化亚铜薄膜的电化学沉积及其光电性能研究的开题报告.docx
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氧化亚铜薄膜的电化学沉积及其光电性能研究的开题报告一、研究背景随着现代信息和能源技术的发展,氧化亚铜薄膜因其优异的光电性能和良好的化学稳定性而备受关注。氧化亚铜薄膜广泛应用于太阳能电池、薄膜晶体管、电化学传感器、光催化等领域。其中,氧化亚铜薄膜的电化学沉积是一种简单、易操作、成本低廉的制备方法。二、研究目的本研究旨在研究氧化亚铜薄膜的电化学沉积方法,探究沉积条件对氧化亚铜薄膜光电性能的影响,并研究薄膜的物化特性,为氧化亚铜薄膜的应用提供基础研究。三、研究内容1.氧化亚铜薄膜的电化学沉积方法的研究与优化。2
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PLD方法沉积ZnO薄膜及其光电性能研究的中期报告本研究旨在通过PLD(pulsedlaserdeposition)方法沉积ZnO薄膜,并研究其光电性能。目前已完成实验中期,并取得以下进展:1.器材准备本研究所需的PLD实验器材已全部准备就绪,包括激光器、气相靶材等。2.沉积工艺优化通过对PLD沉积工艺参数的不断调整和优化,已取得了比较理想的ZnO薄膜沉积效果。目前的最优工艺参数为:激光功率为200mJ,气压为15Pa,衬底温度为室温。3.薄膜表征我们采用了多种表征方法对沉积得到的ZnO薄膜进行了分析。其