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基于氧化硅与氧化铪材料的阻变存储器研究的任务书 任务书 课题名称:基于氧化硅与氧化铪材料的阻变存储器研究 研究背景: 阻变存储器是一种新型的非易失性存储芯片,其能够在断电的情况下保持数据,并且具有高速读写、低功耗等优点,在未来的大规模应用中具有广阔的应用前景。而氧化硅与氧化铪材料具有良好的物理和电学性质,易于制备且成本低廉,所以在阻变存储器中被广泛应用。本课题旨在探究阻变存储器中氧化硅与氧化铪材料的应用,并研究其在非易失性存储器中的性能。 研究内容和目标: 1.了解阻变存储器的原理和分类。 2.研究氧化硅与氧化铪材料的物理和电学性质,并对其在阻变存储器中的应用进行分析。 3.优化氧化硅与氧化铪材料的制备工艺,提高其性能,并考虑制备过程对性能的影响。 4.设计一种阻变存储器,并在此基础上对其性能进行测试。 5.比较不同存储器结构下氧化硅与氧化铪材料的性能表现,优化存储器性能。 研究方法和步骤: 1.文献调研:通过文献查阅和网络搜索,了解阻变存储器的原理和分类,以及氧化硅与氧化铪材料的物理和电学性质。 2.材料制备:利用有效的制备工艺,优化氧化硅与氧化铪材料的性能,确保其适用于阻变存储器的使用。 3.器件制备:将氧化硅与氧化铪材料制成阻变器件,并在此基础上进行性能测试。 4.数据分析:对测试数据进行分析,研究不同制备条件对器件性能的影响,并进行优化。 5.结果讨论:对比研究不同阻变存储器结构下氧化硅与氧化铪材料的性能表现,进一步优化存储器性能。 预期成果: 1.研究氧化硅与氧化铪材料在非易失性存储器中的应用特性。 2.优化制备工艺,提高氧化硅与氧化铪材料的性能。 3.设计出一种性能较为优异的阻变存储器,并对其进行性能测试。 4.通过比较不同阻变存储器结构下氧化硅与氧化铪材料的性能表现,对存储器性能进行进一步优化并得到优化结论。 参考文献: [1]B.W.LeeandS.Myoung,“Non-volatilememorytrendsandchallenges,”inProc.IEEE,vol.98,no.6,pp.959-980,2010. [2]B.Dkhil,Y.Sun,J.Wu,andS.Yu,“EmergingNon-VolatileMemoryDevices:MaterialsandMarkets,”JournalofNanoscienceandNanotechnology,vol.16,no.2,pp.1141-1165,2016. [3]L.Xu,B.Zhang,Y.Jing,J.Jia,Y.Tian,andJ.Gao,“SwitchingvoltagescalinginTa2O5basedresistivememoryforhigh-densitystorageapplications,”IEEETransactionsonElectronDevices,vol.62,no.2,pp.572-578,2015. [4]S.W.Feng,L.Liang,W.Zhou,N.Luan,andY.Gu,“Low-powerresistiveswitchingmemorybasedonZrO2/Al2O3/WO3multilayerstructure,”ThinSolidFilms,vol.628,pp.92-96,2017. [5]Y.F.Zhu,Y.J.Wang,G.Yao,L.S.Zhang,C.L.Jia,andD.W.Zhang,“Non-volatileresistiveswitchingbehaviorofHfO2-basedReRAMdeviceswithathinhigh-kSiO2switchinglayer,”MaterialScienceandEngineering:B,vol.229,pp.225-228,2017.