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Ni3AlCr多层膜的制备及性能研究的中期报告
本研究旨在制备Ni3AlCr多层膜并研究其性能。在前期的研究中，我们成功地制备了Ni3AlCr多层膜，并对其进行了初步的性能测试。在本中期报告中，我们将介绍制备过程中的具体参数设置，以及得到的中间结果。
制备过程
我们使用磁控溅射法制备Ni3AlCr多层膜。具体参数如下：
1.基底材料：硅片
2.溅射室压力：5.0×10^-3Pa
3.靶材：Ni80Al20Cr
4.溅射功率：Ni80Al20Cr靶材为150W，纯净铝靶材为50W
5.溅射时间：每组交错沉积时长为30min，总沉积时间为360min
6.沉积温度：常温
7.沉积气体：氩气
结果分析
通过扫描电镜和X射线衍射仪等测试手段，我们得到了一系列的制备结果：
1.多层膜厚度均匀，约为1μm。
2.结构紧密，表面光滑。
3.多层膜的Ni3AlCr相含量较高，X射线衍射的峰位较为集中，且与标准样品的峰位较为接近。
4.多层膜的硬度为12.5GPa，约为普通金属的5倍。
结论与展望
本次中期报告展示了我们制备Ni3AlCr多层膜的过程和一些初步结果，结果表明该多层膜具有良好的厚度均匀性、结构紧密性和硬度。下一步，我们将进一步研究Ni3AlCr多层膜在高温、高压等极端条件下的性能表现，并探索该膜在材料制备、机械加工等领域的应用前景。