原位光聚合技术制备耐刮擦有机无机杂化纳米材料的研究的中期报告.docx

原位光聚合技术制备耐刮擦有机无机杂化纳米材料的研究的中期报告
本研究旨在利用原位光聚合技术制备耐刮擦有机无机杂化纳米材料，并探究其材料性质及应用前景。本中期报告主要介绍了已完成的实验工作及结果，总结了目前所得到的结论以及下一步的研究计划。
实验部分：
1.合成了含有自由基聚合剂的有机硅单体，并通过核磁共振、质谱等方法进行了定性和定量分析。
2.利用气相色谱-质谱联用技术，确定了有机硅单体在光敏聚合体系中的光引发机理。
3.通过光敏聚合反应制备了有机硅单体的交联聚合物，并运用傅里叶变换红外光谱等测试方法，对其结构进行初步表征。
4.利用原位光聚合技术，制备了有机硅单体与丙烯酸甲酯的杂化纳米材料，并通过原子力显微镜等测试手段，对其形貌和粒径进行了表征。
结果分析：
1.合成了一种新型的含有自由基聚合剂的有机硅单体，为后续制备有机无机杂化材料提供了较好的实验基础。
2.确定了有机硅单体在光敏聚合体系中的光引发机理，为调整体系参数、优化反应条件提供了理论指导。
3.制备了有机硅单体的交联聚合物，并对其结构进行了初步表征，为后续的材料性质研究提供了基础数据。
4.制备了有机硅单体与丙烯酸甲酯的杂化纳米材料，初步表征了其形貌和粒径，发现其具有一定的耐刮擦性能和应用前景。
下一步研究计划：
1.进一步研究有机硅单体在光聚合反应中的机理，探究其对材料性能的影响，寻找合适的体系参数和反应条件，优化纳米材料制备过程。
2.提高杂化纳米材料的耐刮擦性能，并探讨其在防护涂料、电子器件等领域的应用潜力。
3.探究有机硅单体与不同功能性单体的杂化反应机理，利用原位光聚合技术制备多功能性质的有机无机杂化材料。