铝超导隧道结的制备工艺与特性的研究的中期报告.docx
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铝超导隧道结的制备工艺与特性的研究的中期报告Abstract:Theresearchonthepreparationtechnologyandcharacteristicsofaluminumsuperconductingtunneljunctionswascarriedout.Inthismid-termreport,thepreparationprocessofthealuminumsuperconductingtunneljunctionswasdescribedindetail,including
超导隧道结的制作及超导特性研究的中期报告.docx
超导隧道结的制作及超导特性研究的中期报告超导隧道结是超导电子学领域的一个重要研究方向,其具有低电阻、高速度和高频率等优异的超导特性,被广泛应用于量子计算、微波光电和粒子加速器等领域。本中期报告主要介绍了超导隧道结的制作和超导特性研究的进展情况。一、超导隧道结的制作超导隧道结的制作主要涉及到两个方面:超薄金属膜的制备和隧道结的制备。1.超薄金属膜的制备超导隧道结的基础是超薄金属膜,因此超薄金属膜的制备质量直接决定了隧道结的性能。目前常用的超薄金属膜制备技术主要有两种:DC磁控溅射法和分子束外延法。其中,DC
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NbNAlNNbN超导隧道结制备过程中的工艺研究的中期报告这是关于NbN/AlN/NbN超导隧道结制备过程中工艺研究的中期报告。1.研究背景超导隧道结是一种重要的纳米电子器件,被广泛应用于量子比特、量子计算和量子通信等领域。NbN/AlN/NbN超导隧道结在这些方面具有很大的潜力。其中,AlN作为介质层可以提高隧道结的质量因数和电容值,而NbN作为超导体保证了隧道结的超导性能。2.实验方法本实验采用直流磁控溅射法制备NbN/AlN/NbN超导隧道结。制备过程中,首先在单晶硅衬底上制备一个25nm厚的NbN
超导隧道结的制作及超导特性研究.docx
超导隧道结的制作及超导特性研究超导隧道结的制作及超导特性研究隧道结特指在超导材料中形成的金属-超导体-金属的接触形式,由于在此处存在的稳定电阻差异,导致电子在通过该结时发生反射,而产生的反射波与传来的原电子波干涉,从而产生明显的电感和电容效应,即为隧道电流效应。超导隧道结具有优异的物理与电学特性,是研究超导现象以及制作超导器件的重要平台之一。超导隧道结的制备主要基于两种方法,即电子束蒸发和射频磁控溅射。其中,电子束蒸发法的优点在于实验参数比较易于控制,具备成本较低的优势;而射频磁控溅射技术则具备较高的样品
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AlAlO_xAl超导隧道结的制备工艺研究AlAlO_xAl超导隧道结的制备工艺研究摘要:AlAlO_xAl超导隧道结因其在量子计算、量子点探测、量子实验等领域的独特应用而备受研究者的关注。本文研究了制备AlAlO_xAl超导隧道结的工艺,包括Al薄膜沉积、氧化和Al超导电极制备等步骤。采用SEM、EDX、AFM、XPS等多种表面分析手段,对制备过程中的关键参数进行了优化和分类研究。实验结果表明,控制AlAlO_xAl超导隧道结的最优工艺条件是沉积厚度为5.0~6.0nm的Al薄膜,氧化温度为320℃,氧