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掺铒富硅氧化硅薄膜光学性能研究的中期报告
1.研究背景
掺铒富硅氧化硅薄膜具有广阔的应用前景，尤其在光通信和光储存领域具有重要应用价值。因此，本研究旨在研究掺铒富硅氧化硅薄膜的光学性能。
2.研究进展
（1）制备掺铒富硅氧化硅薄膜：通过溅射法制备不同掺铒浓度的富硅氧化硅薄膜。
（2）表征薄膜的组成和结构：利用X射线衍射和傅里叶红外光谱对薄膜的组成和结构进行了表征。
（3）研究薄膜的光学性质：通过聚焦光谱仪和荧光光谱仪测试了不同掺铒浓度的富硅氧化硅薄膜的吸收光谱、发射光谱等光学性质。
3.研究结果与分析
（1）薄膜的组成和结构：结果表明，制备的富硅氧化硅薄膜呈无定形结构，无明显的衍射峰，且随着掺铒浓度的增加，薄膜的光学带隙和折射率均有所提高。
（2）薄膜的吸收光谱：掺铒富硅氧化硅薄膜在500-800nm范围内具有明显的吸收峰，且随着掺铒浓度的增加，吸收峰强度增强，峰位发生红移。
（3）薄膜的发射光谱：掺铒富硅氧化硅薄膜在近红外区域具有明显的发射峰，在980nm处发射强度最强。随着掺铒浓度的增加，发射峰强度增强，发射峰位置发生蓝移，宽度变窄。
4.研究结论
通过以上研究，我们得出结论：掺铒富硅氧化硅薄膜具有优异的光学性能，随着掺铒浓度的增加，吸收光谱和发射光谱均得到增强，因此掺铒富硅氧化硅薄膜在光通信和光储存领域具有很大的应用价值。