Si基稀磁半导体薄膜的磁性研究的开题报告.docx
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Si基稀磁半导体薄膜的磁性研究的开题报告.docx
Mn掺杂Ge/Si基稀磁半导体薄膜的磁性研究的开题报告摘要:稀磁半导体材料在磁电子学领域中具有重要应用价值。本文研究Mn掺杂Ge/Si基稀磁半导体薄膜的磁性质。采用分子束外延技术制备Mn掺杂Ge/Si基薄膜。通过X射线衍射、扫描电镜、拉曼光谱等手段对其结构和形貌进行表征。利用霍尔效应和磁性测量系统测量其电学和磁学性质。研究发现,Mn掺杂Ge薄膜的晶格常数略微增加,Si基薄膜的晶格常数几乎不变,表明Mn掺杂主要影响了Ge薄膜的晶格结构。薄膜中形成了Mn离子的磁性电子态,随着Mn掺杂浓度的增加,磁矩增强,磁滞
SiC基稀磁半导体薄膜制备与磁性表征的开题报告.docx
SiC基稀磁半导体薄膜制备与磁性表征的开题报告一、研究背景稀磁半导体薄膜具有磁性、光学、导电等多种性质,在磁性存储、光电器件、传感器等领域应用广泛。近年来,SiC基稀磁半导体薄膜备受研究者关注,其具有高温稳定性、化学惰性等优势。本文旨在探究SiC基稀磁半导体薄膜的制备方法以及磁性表征。二、研究内容1.SiC基稀磁半导体薄膜的制备方法。SiC基稀磁半导体薄膜的制备方法多种多样,常用的方法有磁控溅射法、气相沉积法、分子束外延法等。其中,磁控溅射法的工艺条件较为严格,但可获得质量较高的薄膜;气相沉积法较易操作,
Si基稀磁半导体的制备与电磁性质研究的任务书.docx
Si基稀磁半导体的制备与电磁性质研究的任务书一、课题背景与意义稀磁半导体是一类具有特殊磁性和电学性质的新型材料,它们具有自旋极化、长弛豫时间和金属电导等优异的特性,广泛应用于磁性存储、自旋电子学和量子计算等领域。其中,Si基稀磁半导体由于其具有适宜的晶体结构和简单的制备工艺,成为当前研究的重点。然而,尽管这些材料具有良好的潜力和实用价值,但其制备质量和电磁性质的研究还需要进一步深入。当前,国内外学者在Si基稀磁半导体的制备方法、修饰以及磁电传输性质等各个方面,开展了大量的研究工作,但是,对于Si基稀磁半导
Mn掺杂GeSi基稀磁半导体薄膜的磁性研究的任务书.docx
Mn掺杂GeSi基稀磁半导体薄膜的磁性研究的任务书任务名称:Mn掺杂GeSi基稀磁半导体薄膜的磁性研究任务目的:研究Mn掺杂GeSi基稀磁半导体薄膜的磁性质,探究其在磁存储、磁传感等领域的应用潜力。任务内容:1.制备Mn掺杂GeSi基稀磁半导体薄膜样品,通过X射线衍射、扫描电子显微镜等手段对样品进行表征。2.采用霍尔效应、磁化强度计等手段对Mn掺杂GeSi基稀磁半导体薄膜的磁性质进行测试与分析。3.研究Mn掺杂浓度对GeSi基稀磁半导体薄膜磁性的影响规律,探究最佳Mn掺杂浓度范围。4.分析Mn掺杂GeSi
NiO基稀磁半导体的结构及磁性研究的中期报告.docx
NiO基稀磁半导体的结构及磁性研究的中期报告本研究旨在研究NiO基稀磁半导体的结构及其磁性质,目前已完成实验数据的采集和初步分析。以下是我们的中期报告。实验方法:我们采用溶胶-凝胶法制备NiO基稀磁半导体样品,并使用X射线衍射(XRD)和磁性测试仪对其进行表征。具体步骤如下:1.首先,我们将Ni(NO3)2·6H2O和Fe(NO3)3·9H2O加入90ml乙二醇中,并用磁子搅拌器搅拌至完全溶解,制备NiFeLDH先驱体;2.将上述溶液加入过量氨水中,并搅拌30min,得到混合溶液,pH值为12;3.在改变