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磁控溅射法制备钛酸锶铅铁电薄膜及电学性能研究的综述报告
钛酸锶铅铁（PST）是一种具有良好电学性能的铁电材料。针对PST薄膜的制备方法，磁控溅射法是一种被广泛研究的制备技术。本文将对磁控溅射法制备PST薄膜及其电学性能研究的现状和进展进行综述。
首先，我们来了解一下磁控溅射法的基本原理。磁控溅射法是指在高真空环境下，利用磁场将靶材表面的原子或分子剥离出来并沉积在基底表面上形成膜层的方法。其中，磁控溅射靶材需要与外部的磁场相互作用，通过靶材表面的离子化产生等离子体，将靶材表面的原子或分子束发射到基底表面进行沉积，来制备薄膜。
当前，磁控溅射法制备钛酸锶铅铁电薄膜的方法主要包括射频磁控溅射法、直流磁控溅射法和脉冲直流磁控溅射法等。射频磁控溅射法制备的薄膜具有较好的薄膜均匀性和良好的结晶性。直流磁控溅射法能够制备较大面积的薄膜，但是其制备的薄膜存在固相晶化的问题。脉冲直流磁控溅射法则是一种新型的制备方法，因为其反复极性改变所以使得薄膜厚度分布范围变窄，能够制备薄膜厚度分布更加均匀。
以上三种方法制备的钛酸锶铅铁薄膜具有良好的铁电性能。实验结果表明，基于磁控溅射法制备的PST薄膜，其晶体结构具有四方相和混合相两种形态，其中四方相薄膜的铁电性能更为优越。电学性能方面，磁控溅射法制备的钛酸锶铅铁薄膜具有较高的介电常数、较小的漏电流和较小的介电损耗。同时这些薄膜还具备良好的饱和极化强度和压电系数，表现出出色的铁电性能。
在后续的应用方面，基于磁控溅射法制备的PST薄膜可应用于电声器件、传感器和非挥发性存储器等器件中。同时，磁控溅射法制备的钛酸锶铅铁薄膜还可以在光伏器件和太阳能电池中发挥重要的作用，具有较大的应用前景。
总之，磁控溅射法制备的钛酸锶铅铁电薄膜具有具有良好的铁电性能和电学性能，在传感器、存储器、太阳能电池等领域具有广阔的应用前景。未来，随着磁控溅射技术的发展，制备出具有更优异性能的PST薄膜的可能性也逐渐增大，这必将推动其在电子器件领域的广泛应用。