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掺铈与掺铬对于铁酸铋薄膜铁电性影响的研究的中期报告
铁酸铋（BiFeO3）作为一种现代铁电材料，其具有良好的铁电性能和多种特殊的物理和化学特性，使其在领域中受到了广泛的关注和研究。为了进一步优化其性能，在过去的研究中，许多学者探究了添加不同元素对BiFeO3薄膜性能的影响。其中，掺铈和掺铬被认为是两种常见的掺杂元素，因此它们的影响被广泛研究。本报告旨在介绍掺铈和掺铬对于BiFeO3薄膜铁电性的影响，并总结已有的研究成果。
1.掺铈对BiFeO3薄膜的影响
掺铈是一种常用的元素掺杂方式，可以影响BiFeO3薄膜的电学性质、晶体结构和热稳定性等方面。早期研究表明，铈元素的掺入可以提高BiFeO3薄膜的铁电性能和电容值，但并不会改变其晶体结构。另外，铈元素的掺入也可以提高BiFeO3薄膜的热稳定性和抗疲劳性。
近年来，一些研究表明，铈的掺入可以产生局域化电子态，从而进一步增加BiFeO3薄膜的铁电性能。掺铈后的BiFeO3薄膜表现出更高的铁电畴壁密度和更稳定的铁电性质。此外，研究还发现，掺铈可以有效减小薄膜的损耗，降低其电流漏率。
2.掺铬对BiFeO3薄膜的影响
掺铬是另一种常用的元素掺杂方式，与掺铈类似，掺铬可以影响BiFeO3薄膜的电学性质和晶体结构等方面。研究表明，掺铬后的BiFeO3薄膜可以产生更高的铁电畴壁密度和更稳定的铁电性态。同时，掺铬还可以增加BiFeO3薄膜的铁电滞回性能和电容值，并降低薄膜的漏电流密度。
然而，掺铬也会改变BiFeO3薄膜的光学性质。研究表明，掺铬会增加BiFeO3薄膜的吸收率和折射率，导致光学带隙减小。
3.结论
综上所述，掺铈和掺铬均可以改善BiFeO3薄膜的铁电性能和电学性质。掺铈可以提高薄膜的热稳定性和铁电性能，降低薄膜的电流漏率；掺铬可以增加薄膜的铁电滞回性能和电容值，并降低薄膜的漏电流密度。但同时也需要注意，掺铬会改变薄膜的光学性质，导致光学带隙减小。因此，在实际应用中，需要根据具体需求选择合适的掺杂方式和掺杂元素。