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适用于声表面波器件的ZnOdiamond多层膜的制备研究的综述报告
声表面波（SurfaceAcousticWave,SAW）器件作为一种重要的微波器件，在无线通信、敏感探测等领域有广泛的应用。因此，研制制备高质量的SAW器件的研究也备受关注。
ZnO薄膜具有优异的声学特性，因此逐渐成为制备高性能SAW器件的重要材料。然而，单层ZnO薄膜的性能受到很多因素的制约，如晶体的缺陷、表面粗糙度等。为了进一步提高ZnO薄膜的性能，多层膜的制备方法应运而生。
目前的研究表明，ZnO/Diamond多层膜的制备方法具有很高的应用潜力。这是因为钻石薄膜具有极高的硬度、优异的导热性和低摩擦系数，能够提高ZnO薄膜的晶体质量、稳定性和表面平整度。
多层膜的制备方法包括物理气相沉积（PhysicalVaporDeposition,PVD）和化学气相沉积（ChemicalVaporDeposition,CVD）两种方式。在PVD方法中，包括磁控溅射、电子束蒸发等技术，其中磁控溅射技术可通过调节溅射电压、沉积温度等参数，控制钻石薄膜和ZnO薄膜的生成和生长，从而制备出多层膜。在CVD方法中，主要使用金属有机化学气相沉积（MetalorganicChemicalVaporDeposition,MOCVD）和气相输运（GasTransport）等技术，可以在较低的温度下制备出钻石和ZnO多层膜。
多层膜的性能对最终的器件性能有很大的影响。在实验研究中，多层膜的声速、频率温度系数和机械损耗等性能指标均受到不同程度的影响。为了获得高性能的SAW器件，应对多层膜进行充分的优化和调整。
此外，多层膜的应用也在不断拓展。例如，研究人员通过将钻石薄膜和氧化铝膜与ZnO薄膜相结合，成功制备了氧化铝/ZnO/Diamond/SiO2/Si多层膜。该器件在传感器领域具有广阔的应用前景。
总之，ZnO/Diamond多层膜的制备方法已经成为当前研究的热点之一。随着相关技术的不断优化和研发，多层膜制备技术将为SAW器件的制备和应用带来更大的发展空间。