碳化硼粉体除杂的研究的中期报告.docx

碳化硼粉体除杂的研究的中期报告
本次研究旨在探究碳化硼粉体除杂的方法及其效果。报告的中期成果如下：
一、目前已确定的除杂方法：
1.筛分法：采用不同粒径的筛网分别筛选碳化硼粉末，去除杂质。该方法操作简单，但去除能力不足。
2.氧化还原法：将碳化硼粉末放入含氧气的介质中进行氧化反应，去除表面有机物和杂质。该方法去除效果好，但操作复杂。
3.化学清洗法：使用化学溶剂清洗碳化硼粉末，去除表面有机物和杂质。该方法去除效果好，但需注意清洗溶剂的选择。
二、实验结果：
1.筛分法：通过筛网筛选不同粒径的碳化硼粉末，效果不明显，无法有效去除杂质。
2.氧化还原法：将碳化硼粉末放入含氧气的介质中，反应时间为2小时。经过该方法处理后，粉末表面的杂质被清除，但残留氧化物对粉末性质有一定影响。
3.化学清洗法：使用去离子水对碳化硼粉末进行清洗，处理时间为30分钟。处理后的粉末表面干净，无明显杂质，抗摩擦性、高温性能等物理性能得到提高。
三、下一步工作：
1.针对氧化还原法清除后残留氧化物的问题，采用控制氧化反应的方法进行改进。
2.深入研究化学清洗法的具体操作条件及清洗溶液的配比，并探究其对物理性能的影响。
3.对以上方法进行综合比较，确定最佳去除杂质方法并进一步优化。