一种防雾减反射可见光双功能镀膜玻璃及其制备方法.pdf

(19)中华人民共和国国家知识产权局(12)发明专利申请(10)申请公布号CN105859153A(43)申请公布日2016.08.17(21)申请号201610204610.2(22)申请日2016.04.01(71)申请人江苏秀强玻璃工艺股份有限公司地址223800江苏省宿迁市宿迁经济开发区东区珠江路102号(72)发明人董玉红赵青南缪灯奎赵杰刘旭(74)专利代理机构南京瑞弘专利商标事务所(普通合伙)32249代理人杨晓玲(51)Int.Cl.C03C17/34(2006.01)权利要求书1页说明书6页(54)发明名称一种防雾减反射可见光双功能镀膜玻璃及其制备方法(57)摘要本发明一种防雾和减反射可见光双功能镀膜玻璃及其制备方法，采取磁控溅射法镀膜，其特征在于该镀膜玻璃的膜层结构按顺序排列为：亲水膜层/隔离层/玻璃/隔离层/减反射可见光膜层。该双功能镀膜玻璃在380nm至780nm光谱波长范围内，透射率比未镀膜玻璃原片的透射率提高1.5～3.5％；膜层铅笔硬度6.50H～7.5H；镀膜玻璃的亲水层润湿角1.0～4.5°。得到的镀膜玻璃可以用于电子显示器面板、封装玻璃盖板、橱窗、镜框、机车和轮船窗玻璃等领域。CN105859153ACN105859153A权利要求书1/1页1.一种防雾和减反射可见光双功能镀膜玻璃，其特征在于该镀膜玻璃的膜层结构按顺序排列为：亲水膜层/隔离层/玻璃/隔离层/减反射可见光膜层；其中，亲水膜层为ZnO-TiO2膜；隔离层指二氧化硅膜；减反射可见光膜层结构为：高折射率膜/二氧化硅膜A/氮氧化硅膜/二氧化硅膜B；高折射率膜指二氧化钛、氧化铌、氧化锆、氧化锡或氧化锌介质膜。2.根据权利要求1所述的一种防雾和减反射可见光双功能镀膜玻璃，其特征在于所述的隔离层膜厚度5～20nm；亲水膜层ZnO-TiO2膜层厚度75～160nm。高折射率膜层厚度15～60nm；二氧化硅膜A膜层厚度15～40nm；氮氧化硅膜层厚度75～150nm；二氧化硅膜B膜层厚度60～110nm。3.一种如权利要求1或2所述的防雾和减反射可见光双功能镀膜玻璃的制备方法，其特征在于所述双功能镀膜玻璃制备方法如下：1)采用磁控溅射方法在玻璃上镀膜；a.玻璃清洗：采用去离子水清洗玻璃，干燥，得到洁净玻璃；b.在常压氮气氛下，用等离子体轰击处理洁净玻璃表面；c.在玻璃的一面用磁控溅射法依次镀制隔离层、ZnO-TiO2膜层；d.在玻璃未镀膜的另一面用磁控溅射法依次镀制隔离层即二氧化硅膜、高折射率介质膜、二氧化硅、氮氧化硅、二氧化硅层。4.根据权利要求3所述的防雾和减反射可见光双功能镀膜玻璃的制备方法，其特征在于所述用反应磁控溅射法沉积二氧化硅膜；氧气和氩气流量比例5％～35％，溅射气压2.5～4.0×10-1Pa，用纯硅、或硅铝、或硅硼做靶材，沉积的二氧化硅膜层厚度5～20nm；镀膜箱体空间温度120℃～260℃。5.根据权利要求3所述的防雾和减反射可见光双功能镀膜玻璃的制备方法，其特征在于所述用磁控溅射法交互溅射沉积ZnO-TiO2膜层，氩气做工作气体，溅射气压2.5～4.0×10-1Pa，用氧化锌，氧化钛做靶材。6.根据权利要求3所述的防雾和减反射可见光双功能镀膜玻璃的制备方法，其特征在于所述用磁控溅射法沉积高折射率介质膜层，溅射气压2.5～4.0×10-1Pa，用二氧化钛，氧化铌、氧化锆、氧化锡或氧化锌做靶材。7.根据权利要求3所述的防雾和减反射可见光双功能镀膜玻璃的制备方法，其特征在于所述反应磁控溅射法沉积氮氧硅膜层，用纯硅、或硅铝、或硅硼做溅射镀膜靶材，用氩气做工作气体，氮气、氧气和氩气流量比例5～10％、5～15％、75～90％，溅射气压2.5～4.0×10-1Pa。8.根据权利要求3所述的防雾和减反射可见光双功能镀膜玻璃的制备方法，其特征在于所述镀膜前玻璃清洗、干燥后得到的洁净玻璃需在常压氮气氛围，用500～1000V电压形成的等离子体处理洁净玻璃表面。9.根据权利要求3所述的防雾和减反射可见光双功能镀膜玻璃的制备方法，其特征在于所述该双功能镀膜玻璃在380nm至780nm光谱波长范围内，透射率比未镀膜玻璃原片的透射率提高1.5～3.5％；膜层铅笔硬度6.50H～7.5H；镀膜玻璃的亲水层润湿角1.0～4.5°。2CN105859153A说明书1/6页一种防雾减反射可见光双功能镀膜玻璃及其制备方法技术领域[0001]本发明属于显示器件、仪表封装、保护玻璃盖板、橱窗、以及机车和轮船窗玻璃等使用玻璃的领域，具体涉及一种防雾减反射可见光双功能镀膜玻璃及其制备方法。背景技术[0002]当潮湿空气冷却到一定的温度时，空气中一部分的水汽就会凝结出来，变成很多小水滴，悬浮在近地面的空气层里，就形成了雾。如果这些潮湿空气冷遇到温度较低的玻璃、并且玻璃